发明授权
- 专利标题： Iodate-containing chemical-mechanical polishing compositions and methods
- 专利标题（中）： 含碘酸的化学机械抛光组合物和方法
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申请号： US11387558申请日： 2006-03-23
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公开(公告)号： US08551202B2公开(公告)日： 2013-10-08
- 发明人: Shoutian Li , Phillip W. Carter , Jian Zhang
- 申请人： Shoutian Li , Phillip W. Carter , Jian Zhang
- 申请人地址： US IL Aurora
- 专利权人： Cabot Microelectronics Corporation
- 当前专利权人： Cabot Microelectronics Corporation
- 当前专利权人地址： US IL Aurora
- 代理商 Thomas E Omholt; Susan L Steele; Steven D Weseman
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02 ; C09G1/04
摘要：
The invention provides compositions and methods for planarizing or polishing a substrate. The composition comprises an abrasive, iodate ion, a nitrogen-containing compound selected from the group consisting of a nitrogen-containing C4-20 heterocycle and a C1-20 alkylamine, and a liquid carrier comprising water.
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