发明授权
US08575190B2 Method of preventing or ameliorating psoriasis using pyrroloquinoline quinone compounds
有权
使用吡咯喹啉醌化合物预防或改善牛皮癣的方法
- 专利标题： Method of preventing or ameliorating psoriasis using pyrroloquinoline quinone compounds
- 专利标题（中）： 使用吡咯喹啉醌化合物预防或改善牛皮癣的方法
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申请号： US12742351申请日： 2008-11-12
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公开(公告)号： US08575190B2公开(公告)日： 2013-11-05
- 发明人: Ayako Kamimura , Toshikazu Kamiya , Masahiko Nakano , Kazutoshi Kikkawa
- 申请人： Ayako Kamimura , Toshikazu Kamiya , Masahiko Nakano , Kazutoshi Kikkawa
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- 当前专利权人： Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
- 优先权： JP2007-296022 20071114
- 国际申请： PCT/JP2008/070578 WO 20081112
- 国际公布： WO2009/063897 WO 20090522
- 主分类号： A61K31/44
- IPC分类号： A61K31/44
摘要：
The present invention provides a method for preventing or ameliorating skin psoriasis by applying as an active ingredient, a compound represented by general formula (I) or a salt thereof: (wherein R1, R2, and R3 simultaneously or separately represent a lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl, aralkyl, araryl, or phenyl group, or a hydrogen atom).
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