发明授权
- 专利标题： Radiation-sensitive resin composition, polymer and compound
- 专利标题（中）： 辐射敏感性树脂组合物，聚合物和化合物
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申请号： US13243046申请日： 2011-09-23
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公开(公告)号： US08603726B2公开(公告)日： 2013-12-10
- 发明人: Kazuo Nakahara , Mitsuo Sato , Yusuke Asano
- 申请人： Kazuo Nakahara , Mitsuo Sato , Yusuke Asano
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Ditthavong Mori & Steiner, P.C.
- 优先权： JP2010-219857 20100929
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/004 ; G03F7/028
摘要：
A radiation-sensitive resin composition including (A) a polymer that includes a repeating unit (a1) and a fluorine atom, and (B) a photoacid generator, the repeating unit (a1) including a group shown by any of the following formulas (1-1) to (1-3).
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