发明授权
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US13154008申请日： 2011-06-06
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公开(公告)号： US08681311B2公开(公告)日： 2014-03-25
- 发明人: Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Nicolaas Ten Kate , Michel Riepen , Sergei Shulepov , Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders
- 申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Nicolaas Ten Kate , Michel Riepen , Sergei Shulepov , Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
An immersion lithographic apparatus is disclosed in which a gas knife is shaped and a liquid removal device is positioned to improve removal of liquid from the surface of the substrate.
公开/授权文献
- US20110235008A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 公开/授权日：2011-09-29
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