发明授权
- 专利标题： Neutral ligand containing precursors and methods for deposition of a metal containing film
- 专利标题（中）： 含中性配体的前体和沉积含金属膜的方法
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申请号： US12212500申请日： 2008-09-17
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公开(公告)号： US08758867B2公开(公告)日： 2014-06-24
- 发明人: Benjamin J. Jurcik, Jr. , Christian Dussarrat
- 申请人： Benjamin J. Jurcik, Jr. , Christian Dussarrat
- 申请人地址： FR Paris
- 专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés George Claude
- 当前专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés George Claude
- 当前专利权人地址： FR Paris
- 代理商 Patricia E. McQueeney
- 主分类号： C23C16/513
- IPC分类号： C23C16/513
摘要：
Methods and compositions for depositing metal films are described herein. In general, the disclosed methods utilize precursor compounds comprising gold, silver or copper. More specifically, the disclosed precursor compounds utilize neutral ligands derived from ethylene or acetylene.
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