发明授权
US08771916B2 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
有权
光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法
- 专利标题： Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
- 专利标题（中）： 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法
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申请号： US13139074申请日： 2009-12-11
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公开(公告)号： US08771916B2公开(公告)日： 2014-07-08
- 发明人: Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
- 申请人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2008-317751 20081212; JP2008-317752 20081212; JP2008-317754 20081212; JP2009-054291 20090306; JP2009-091616 20090403; JP2009-122470 20090520; JP2009-131275 20090529; JP2009-167004 20090715; JP2009-251478 20091030
- 国际申请： PCT/JP2009/071189 WO 20091211
- 国际公布： WO2010/067905 WO 20100617
- 主分类号： G03F7/075
- IPC分类号： G03F7/075 ; G03F7/20 ; G03F7/30
摘要：
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, includes: (A) a resin capable of increasing the solubility of the resin (A) in an alkali developer by the action of an acid; and (C) a resin having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing (c) a repeating unit having at least two or more polarity conversion groups.
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