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1.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film and pattern forming method using the composition 有权光敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜和图案形成方法使用该组合物公开(公告)号：US08802349B2
公开(公告)日：2014-08-12
申请号：US13258898
申请日：2010-03-31
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing (a) a repeating unit represented by the following formula (AN-01), (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin that contains at least either a fluorine atom or a silicon atom and contains a repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an alkali developer to increase the solubility in an alkali developer: wherein the variables in formula (AN-01) are defined in the description.
摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，所述树脂含有（a）由下式表示的重复单元 （AN-01），（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）含有至少一个氟原子或硅原子的树脂，并且含有具有 能够通过碱显影剂的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的组：其中式（AN-01）中的变量在说明书中定义。
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2.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same 有权光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US08617788B2
公开(公告)日：2013-12-31
申请号：US13257403
申请日：2010-03-30
申请人： Takayuki Kato , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka , Shuhei Yamaguchi , Akinori Shibuya
发明人： Takayuki Kato , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka , Shuhei Yamaguchi , Akinori Shibuya
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, wherein when a film having a film thickness of 100 nm is formed from the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, the film has a transmittance of 55 to 80% for light at a wavelength of 193 nm, and a pattern forming method using the composition are provided.
摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其中当由光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜厚度为100nm的膜时，该膜对于光线具有55至80％的透射率 在波长193nm下，提供使用该组合物的图案形成方法。
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3.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和耐蚀膜和使用组合物的图案形成方法公开(公告)号：US20120015301A1
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：US13258898
申请日：2010-03-31
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing (a) a repeating unit represented by the following formula (AN-01), (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin that contains at least either a fluorine atom or a silicon atom and contains a repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an alkali developer to increase the solubility in an alkali developer: wherein the variables in formula (AN-01) are defined in the description.
摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，所述树脂含有（a）由下式表示的重复单元 （AN-01），（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，和（C）含有至少一个氟原子或硅原子的树脂，并且含有具有 能够通过碱显影剂的作用分解以提高在碱性显影剂中的溶解度的组：其中式（AN-01）中的变量在说明书中定义。
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4.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US20110236828A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：US13139074
申请日：2009-12-11
申请人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
发明人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
CPC分类号： C07D307/93 , C07D407/12 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D495/18 , C08F24/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, includes: (A) a resin capable of increasing the solubility of the resin (A) in an alkali developer by the action of an acid; and (C) a resin having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing (c) a repeating unit having at least two or more polarity conversion groups.
摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂（A）在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（C）至少具有氟原子或硅原子的树脂，并含有（c）具有至少两个以上极性转换基团的重复单元。
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5.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the composition 有权光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物和使用该组合物的图案形成方法公开(公告)号：US08795944B2
公开(公告)日：2014-08-05
申请号：US13139193
申请日：2009-12-11
申请人： Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka
发明人： Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/2041
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin which contains (c) a repeating unit having at least one polarity conversion group and has at least either a fluorine atom or a silicon atom.
摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，（B）在照射时能够产生酸的化合物 光化射线或辐射，以及（C）含有（c）具有至少一个极性转换基并且至少具有氟原子或硅原子的重复单元的树脂。
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6.发明授权Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same 有权光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US08771916B2
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：US13139074
申请日：2009-12-11
申请人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
发明人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
CPC分类号： C07D307/93 , C07D407/12 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D495/18 , C08F24/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, includes: (A) a resin capable of increasing the solubility of the resin (A) in an alkali developer by the action of an acid; and (C) a resin having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing (c) a repeating unit having at least two or more polarity conversion groups.
摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂（A）在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（C）至少具有氟原子或硅原子的树脂，并含有（c）具有至少两个以上极性转换基团的重复单元。
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7.发明授权公开(公告)号：US08252877B2
公开(公告)日：2012-08-28
申请号：US12635998
申请日：2009-12-11
申请人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
发明人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
IPC分类号： C08F24/00
CPC分类号： C07D493/20 , C07D493/14 , C08F220/30
摘要： Provided is a polymerizable compound represented by the following general formula (ca-1) or (cb-1): wherein the variables in the formulae are defined in the specification.
摘要翻译： 提供由以下通式（ca-1）或（cb-1）表示的可聚合化合物：其中式中的变量在说明书中定义。
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8.发明授权公开(公告)号：US08362170B2
公开(公告)日：2013-01-29
申请号：US13525583
申请日：2012-06-18
申请人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
发明人： Shuji Hirano , Kaoru Iwato , Hiroshi Saegusa , Yusuke Iizuka
IPC分类号： C08F24/00
CPC分类号： C07D493/20 , C07D493/14 , C08F220/30
摘要： Provided is a polymerizable compound represented by the following general formula (ca-1) or (cb-1): wherein the variables in the formulae are defined in the specification.
摘要翻译： 提供由以下通式（ca-1）或（cb-1）表示的可聚合化合物：其中式中的变量在说明书中定义。
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9.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法公开(公告)号：US20120009522A1
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：US13257403
申请日：2010-03-30
申请人： Takayuki Kato , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka , Shuhei Yamaguchi , Akinori Shibuya
发明人： Takayuki Kato , Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka , Shuhei Yamaguchi , Akinori Shibuya
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041
摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, wherein when a film having a film thickness of 100 nm is formed from the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, the film has a transmittance of 55 to 80% for light at a wavelength of 193 nm, and a pattern forming method using the composition are provided.
摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其中当由光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜厚度为100nm的膜时，该膜对于光线具有55至80％的透射率 在波长193nm下，提供使用该组合物的图案形成方法。
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10.发明申请ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 有权化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物的图案形成方法公开(公告)号：US20110318687A1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：US13139193
申请日：2009-12-11
申请人： Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka
发明人： Hiroshi Saegusa , Kaoru Iwato , Shuji Hirano , Yusuke Iizuka
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0758 , G03F7/2041
摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a resin which contains (c) a repeating unit having at least one polarity conversion group and has at least either a fluorine atom or a silicon atom.
摘要翻译： 本发明提供一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，（B）在照射时能够产生酸的化合物 光化射线或辐射，以及（C）含有（c）具有至少一个极性转换基并且至少具有氟原子或硅原子的重复单元的树脂。
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