发明授权
US09115074B2 Fluorinated monomer, polymer, resist composition, and patterning process
有权
氟化单体，聚合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺
- 专利标题： Fluorinated monomer, polymer, resist composition, and patterning process
- 专利标题（中）： 氟化单体，聚合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺
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申请号： US14142588申请日： 2013-12-27
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公开(公告)号： US09115074B2公开(公告)日： 2015-08-25
- 发明人: Masayoshi Sagehashi , Koji Hasegawa , Takeshi Sasami
- 申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
- 优先权： JP2010-088537 20100407
- 主分类号： C07C69/013
- IPC分类号： C07C69/013 ; C07C69/653 ; G03F7/004 ; C07D317/34 ; C07D317/72 ; C08F220/22 ; C08F220/24 ; C08F220/18 ; C08F222/18 ; C08F222/20 ; C08F222/22 ; C08F220/28 ; G03F7/039 ; C08F24/00
摘要：
A fluorinated monomer has formula (1) wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are H or a monovalent hydrocarbon group, R4 to R6 each are a monovalent fluorinated hydrocarbon group, A is a divalent hydrocarbon group, and k1 is 0, 1 or 2. A polymer derived from the fluorinated monomer may be endowed with appropriate water repellency, water slip, acid lability and hydrolysis and is useful as an additive polymer in formulating a resist composition.
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