发明授权
- 专利标题： Graphene base and method of preparing the same
- 专利标题（中）： 石墨烯碱及其制备方法
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申请号： US12815791申请日： 2010-06-15
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公开(公告)号： US09315387B2公开(公告)日： 2016-04-19
- 发明人: Hyeon-jin Shin , Won-mook Choi , Jae-young Choi , Seon-mi Yoon
- 申请人： Hyeon-jin Shin , Won-mook Choi , Jae-young Choi , Seon-mi Yoon
- 申请人地址： KR
- 专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 当前专利权人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
- 当前专利权人地址： KR
- 代理机构： Cantor Colburn LLP
- 优先权： KR10-2009-0072116 20090805
- 主分类号： B32B9/00
- IPC分类号： B32B9/00 ; C01B31/04 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00 ; C01B31/02 ; H01J1/304
摘要：
A graphene base, including: graphene; and a substrate, wherein the graphene is formed directly on at least one surface of the substrate, and at least about 90 percent of an area of the surface of the substrate does not have a graphene wrinkle.
公开/授权文献
- US20110033677A1 GRAPHENE BASE AND METHOD OF PREPARING THE SAME 公开/授权日：2011-02-10
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