发明授权
- 专利标题： Vapor deposition systems and methods
- 专利标题（中）： 气相沉积系统和方法
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申请号： US13304676申请日： 2011-11-27
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公开(公告)号： US09556519B2公开(公告)日： 2017-01-31
- 发明人: Douwe Johannes Monsma , Jill Svenja Becker
- 申请人： Douwe Johannes Monsma , Jill Svenja Becker
- 申请人地址： US CA San Jose
- 专利权人： ULTRATECH INC.
- 当前专利权人： ULTRATECH INC.
- 当前专利权人地址： US CA San Jose
- 代理机构： The Marbury Law Group PLLC
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C23C16/44 ; B01D50/00 ; B01D53/04
摘要：
Vapor deposition systems and methods associated with the same are provided. The systems may be designed to include features that can promote high quality deposition; simplify manufacture, modification and use; as well as, reduce the footprint of the system, amongst other advantages.
公开/授权文献
- US20120070581A1 VAPOR DEPOSITION SYSTEMS AND METHODS 公开/授权日：2012-03-22
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IPC分类:
