- 专利标题： Titanium-containing film forming compositions for vapor deposition of titanium-containing films
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申请号： US14954319申请日： 2015-11-30
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公开(公告)号： US09790591B2公开(公告)日： 2017-10-17
- 发明人: Changhee Ko , Julien Gatineau , Clément Lansalot-Matras , Julien Lieffrig , Hana Ishii
- 申请人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 申请人地址： FR Paris
- 专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 当前专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 当前专利权人地址： FR Paris
- 代理商 Patricia E. McQueeney
- 主分类号： C07F9/66
- IPC分类号： C07F9/66 ; C23C16/18 ; C23C16/34 ; C23C16/40 ; C23C16/44
摘要：
Titanium-containing film forming compositions are disclosed as well as methods of synthesizing the same and methods of forming Titanium-containing films on substrates via vapor deposition processes using the Titanium-containing film forming compositions. The Titanium-containing film forming compositions comprise a precursor having the formula Ti(R5Cp)2(L), wherein each R is independently H, an alkyl group, or R′3Si, with each R′ independently being H or an alkyl group; L is selected from the group consisting of formamidinates (NR,R′-fmd) or amidinates (NR,R′R″-amd).
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