- 专利标题： Liner for plasma processing apparatus
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申请号： US29400581申请日： 2011-08-30
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公开(公告)号： USD658691S1公开(公告)日： 2012-05-01
- 设计人: Kouki Suzuki , Jun Yamashita , Masakazu Ban , Atsushi Ueda
- 申请人： Kouki Suzuki , Jun Yamashita , Masakazu Ban , Atsushi Ueda
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Tokyo Electron Limited
- 当前专利权人： Tokyo Electron Limited
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P.
- 优先权： JP2011-007264 20110330
- LOC分类号： 15-09
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