Invention Application
WO2005035620A1 ポリアルキレンテレフタレートの製造方法、ポリアルキレンテレフタレート成形体の製造方法及びポリアルキレンテレフタレート成形体
审中-公开
制备聚对苯二甲酸乙二醇酯的方法,制备聚对苯二甲酸丁二醇酯模塑的方法和聚对苯二甲酸乙二醇酯模塑
- Patent Title: ポリアルキレンテレフタレートの製造方法、ポリアルキレンテレフタレート成形体の製造方法及びポリアルキレンテレフタレート成形体
- Patent Title (English): Process for producing polyalkylene terephthalate, process for producing polyalkylene terephthalate molding and polyalkylene terephthalate molding
- Patent Title (中): 制备聚对苯二甲酸乙二醇酯的方法,制备聚对苯二甲酸丁二醇酯模塑的方法和聚对苯二甲酸乙二醇酯模塑
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Application No.: PCT/JP2004/014869Application Date: 2004-10-07
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Publication No.: WO2005035620A1Publication Date: 2005-04-21
- Inventor: 横山 宏 , 藤本 克宏 , 網中 宗明 , 杉本 純一 , 勝又 勉
- Applicant: 旭化成ケミカルズ株式会社 , 横山 宏 , 藤本 克宏 , 網中 宗明 , 杉本 純一 , 勝又 勉
- Applicant Address: 〒1008440 東京都千代田区有楽町一丁目1番2号 Tokyo JP
- Assignee: 旭化成ケミカルズ株式会社,横山 宏,藤本 克宏,網中 宗明,杉本 純一,勝又 勉
- Current Assignee: 旭化成ケミカルズ株式会社,横山 宏,藤本 克宏,網中 宗明,杉本 純一,勝又 勉
- Current Assignee Address: 〒1008440 東京都千代田区有楽町一丁目1番2号 Tokyo JP
- Agency: 浅村 皓
- Priority: JP2003-352531 20031010; JP2003-382473 20031112
- Main IPC: C08G63/78
- IPC: C08G63/78
Abstract:
本発明は、70モル%以上がエチレンテレフタレートまたは1,4−ブチレンテレフタレート繰返単位から構成される極限粘度[η]が0.2~2dl/gのポリアルキレンテレフタレートのプレポリマーを、溶融状態にて原料供給口から重合器に供給し、多孔板の孔から吐出させた後、該プレポリマーの(結晶融点−10°C)以上、(結晶融点+30°C)以下の温度にて、式(S 1 /S 2 >1/S 1 :落下するポリアルキレンテレフタレートの表面積/S 2 :支持体とポリアルキレンテレフタレートが接触している面積)の条件で、支持体の外に開いた表面に沿わせて落下させながら減圧下にて重合させることを含む、ポリアルキレンテレフタレートの製造方法、を提供する。
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