Invention Application
WO2005057992A2 DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA D'UN MILIEU GAZEUX, PROCEDE UTILISANT CE DISPOSITIF ET APPLICATIONS
审中-公开
用于等离子体处理气体介质的装置,使用上述装置的方法及其使用
- Patent Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA D'UN MILIEU GAZEUX, PROCEDE UTILISANT CE DISPOSITIF ET APPLICATIONS
- Patent Title (English): Device for plasma processing a gaseous medium, method for using said device and the use thereof
- Patent Title (中): 用于等离子体处理气体介质的装置,使用上述装置的方法及其使用
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Application No.: PCT/FR2004/003120Application Date: 2004-12-03
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Publication No.: WO2005057992A2Publication Date: 2005-06-23
- Inventor: DREAN, Henri-Louis
- Applicant: RASAR HOLDING N.V. , DREAN, Henri-Louis
- Applicant Address: 1 Berg Arrarat, P.O. Box 3889, Curaçao AN
- Assignee: RASAR HOLDING N.V.,DREAN, Henri-Louis
- Current Assignee: RASAR HOLDING N.V.,DREAN, Henri-Louis
- Current Assignee Address: 1 Berg Arrarat, P.O. Box 3889, Curaçao AN
- Agency: KEDINGER, Jean-Paul
- Priority: FR0314223 20031204
- Main IPC: H05H
- IPC: H05H
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de traitement de milieu gazeux par plasma qui comprend une chambre de traitement (2) comportant une enveloppe (6) de surface interne tronconique (8) qui converge depuis l'extrémité amont (9) vers l'extrémité aval (10) de la chambre de traitement (2), dans laquelle une tige centrale tronconique (11) s'étend longitudinalement, dans laquelle au moins quatre cloisons radiales (15) qui forment au moins quatre cavités de résonance (16) sont en contact électrique (17) avec la surface interne (8) de la première chambre (2) et supportent un cylindre perforé (19) disposé coaxialement dans la première chambre (2) autour de la tige centrale (11) et dans laquelle une première phase électrique (59) délivre une haute tension alternative qui alimente l'enveloppe (6) de la première chambre de traitement (2). L'invention concerne également un procédé utilisant un tel dispositif et les applications de ce dispositif notamment au traitement des gaz d'échappement d'un véhicule automobile.
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