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    DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA D'UN MILIEU GAZEUX, PROCEDE UTILISANT CE DISPOSITIF ET APPLICATIONS
    2.
    发明申请
    DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA D'UN MILIEU GAZEUX, PROCEDE UTILISANT CE DISPOSITIF ET APPLICATIONS 审中-公开
    用于等离子体处理气体介质的装置，使用上述装置的方法及其使用

    公开(公告)号：WO2005057992A2

    公开(公告)日：2005-06-23

    申请号：PCT/FR2004/003120

    申请日：2004-12-03

    Applicant: RASAR HOLDING N.V. ,  DREAN, Henri-Louis

    Inventor： DREAN, Henri-Louis

    IPC: H05H

    CPC classification number: F01N3/0892 ,  F01N2240/28 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4645 ,  H05H2245/1215

    Abstract: L'invention concerne un dispositif de traitement de milieu gazeux par plasma qui comprend une chambre de traitement (2) comportant une enveloppe (6) de surface interne tronconique (8) qui converge depuis l'extrémité amont (9) vers l'extrémité aval (10) de la chambre de traitement (2), dans laquelle une tige centrale tronconique (11) s'étend longitudinalement, dans laquelle au moins quatre cloisons radiales (15) qui forment au moins quatre cavités de résonance (16) sont en contact électrique (17) avec la surface interne (8) de la première chambre (2) et supportent un cylindre perforé (19) disposé coaxialement dans la première chambre (2) autour de la tige centrale (11) et dans laquelle une première phase électrique (59) délivre une haute tension alternative qui alimente l'enveloppe (6) de la première chambre de traitement (2). L'invention concerne également un procédé utilisant un tel dispositif et les applications de ce dispositif notamment au traitement des gaz d'échappement d'un véhicule automobile.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于等离子体处理气体介质的装置，包括设置有具有锥形内表面（8）的处理室（2），其具有从顶端（9）朝下端逐渐变细的锥形内表面（8） 其中锥形中心杆（11）纵向延伸的处理室（2）中的至少四个径向隔板（15），形成至少四个共振空腔，其具有与内表面（8）的电接触（17） 并且支撑围绕所述中心杆（11）同轴地设置在所述第一腔室（2）中的多孔圆柱体（19），并且其中第一电相（59）提供高压交流电流以供给所述第一室 第一处理室（2）的封套（6）。 还公开了使用所述装置及其用途的方法，特别是用于处理机动车辆的废气的方法。

    PROCEDE POUR GENERER UN PLASMA FROID DESTINE A LA STERILISATION DE MILIEU GAZEUX ET DISPOSITIF POUR METTRE EN ŒUVRE CE PROCEDE
    3.
    发明申请
    PROCEDE POUR GENERER UN PLASMA FROID DESTINE A LA STERILISATION DE MILIEU GAZEUX ET DISPOSITIF POUR METTRE EN ŒUVRE CE PROCEDE 审中-公开
    用于产生用于灭菌气体介质的冷等离子体的方法及其装置

    公开(公告)号：WO2003092338A1

    公开(公告)日：2003-11-06

    申请号：PCT/FR2003/001222

    申请日：2003-04-16

    Applicant: RASAR HOLDING N.V. ,  DREAN, Henri, Louis

    Inventor： DREAN, Henri, Louis

    IPC: H05H1/24

    CPC classification number: A61L9/22 ,  A61L9/18 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32678 ,  H01J37/32825 ,  H01J37/32844 ,  H01J37/32853 ,  H01J37/32935 ,  H05H2245/121 ,  Y02C20/30

    Abstract: La présente invention concerne un procédé pour générer un plasma froid destiné à la stérilisation de milieu gazeux et un dispositif pour mettre en œuvre ce procédé. Le dispositif de l'invention comprend une enceinte de confinement (1) comprenant au moins une chambre de traitement (40), un moyen (4) pour générer un premier champ magnétique uniforme (B1), un moyen (5) pour générer un deuxième champ magnétique uniforme (B2), un moyen (6, 7) pour émettre un signal électromagnétique (EM1), un moyen (9, 10) pour générer un premier champ électrique uniforme (E1), un moyen (12, 13) pour générer un ou plusieurs second champs électriques (E2) dans le plasma et un système d'alimentation (14) contrôlant la valeur des premier et deuxième champs magnétiques uniformes (B1, B2) et la fréquence et l'amplitude des tensions alternatives (V6, V7).

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于产生用于对气态介质进行灭菌的冷等离子体的方法及其装置。 本发明的装置包括限制室（1），其包括至少一个处理室（40），用于产生第一均匀磁场（B1）的装置（4），用于产生第二均匀磁场（B2）的装置（5） 用于发射电磁信号（EM1）的装置（6,7），用于在所述等离子体中产生一个或几个第二电磁场（E2）的装置（9,10）和控制所述第一和第二 磁场（B1，B2）以及交流电压（V6，V7）的频率和振幅。

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