Invention Application
- Patent Title: VERFAHREN ZUR VERMESSUNG TOPOGRAPHISCHER STRUKTUREN AUF BAUELEMENTEN
- Patent Title (English): Method for measuring topographic structures on components
- Patent Title (中): 法测量结构地貌上的组件
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Application No.: PCT/EP2005/005281Application Date: 2005-05-13
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Publication No.: WO2005114290A1Publication Date: 2005-12-01
- Inventor: STELZL, Michael , SEIDEMANN, Volker , LEIB, Jürgen , NGO, Ha-Duong
- Applicant: SCHOTT AG , STELZL, Michael , SEIDEMANN, Volker , LEIB, Jürgen , NGO, Ha-Duong
- Applicant Address: Hattenbergstrasse 10, 55122 Mainz DE
- Assignee: SCHOTT AG,STELZL, Michael,SEIDEMANN, Volker,LEIB, Jürgen,NGO, Ha-Duong
- Current Assignee: SCHOTT AG,STELZL, Michael,SEIDEMANN, Volker,LEIB, Jürgen,NGO, Ha-Duong
- Current Assignee Address: Hattenbergstrasse 10, 55122 Mainz DE
- Agency: HERDEN, Andreas
- Priority: DE10 20040517
- Main IPC: G02B21/00
- IPC: G02B21/00
Abstract:
Um Topographien auf Wafern oder Bauelementen zerstörungsfrei vermessen zu können, sieht die Erfindung ein Verfahren zur Vermessung dreidimensionaler topographischer Strukturen (22) auf Wafern (2) oder Bauelementen vor, bei welchem mit einem konfokalen Mikroskop (1) zumindest eine fluoreszierende topographische Struktur (22) mit Anregungslicht abgetastet und das aus dem Brennpunkt (17) in der Brennebene (19) des Objektivs (15) emittierte, durch das Anregungslicht angeregte Fluoreszenzlicht detektiert wird und Messdaten aus der Lage des Brennpunkts (17) und dem detektierten Fluoreszenzsignal gewonnen werden.
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