Invention Application
- Patent Title: スピン注入磁化反転MTJを用いた不揮発性SRAM/ラッチ回路
- Patent Title (English): Nonvolatile sram/latch circuit using spin-injection magnetization reversal mtj
- Patent Title (中): 非旋转SRAM /锁存电路使用旋转注入磁化反转MTJ
-
Application No.: PCT/JP2008/063787Application Date: 2008-07-31
-
Publication No.: WO2009028298A1Publication Date: 2009-03-05
- Inventor: 山本修一郎 , 菅原聡
- Applicant: 国立大学法人東京工業大学 , 山本修一郎 , 菅原聡
- Applicant Address: 〒1528550 東京都目黒区大岡山2-12-1 Tokyo JP
- Assignee: 国立大学法人東京工業大学,山本修一郎,菅原聡
- Current Assignee: 国立大学法人東京工業大学,山本修一郎,菅原聡
- Current Assignee Address: 〒1528550 東京都目黒区大岡山2-12-1 Tokyo JP
- Agency: 片山修平
- Priority: JP2007-225697 20070831; JP2007-227261 20070903
- Main IPC: G11C11/15
- IPC: G11C11/15 ; G11C11/41
Abstract:
本発明は、データを記憶する双安定回路30と、双安定回路30に記憶されたデータを強磁性電極フリー層の磁化方向に応じ不揮発的にストアする強磁性トンネル接合素子MTJ1およびMTJ2と、を具備し、強磁性トンネル接合素子MTJ1およびMTJ2に不揮発的に記憶されたデータを双安定回路30にリストア可能である記憶回路である。本発明によれば、双安定回路30へのデータの書き込みおよび読み出しを高速に行うことができる。また、電源が遮断されても強磁性トンネル接合素子MTJ1およびMTJ2に不揮発的にストアされたデータを双安定回路30にリストアすることが可能である。
Information query