Invention Application
- Patent Title: 回路接続材料、接続構造体及びその製造方法
- Patent Title (English): Circuit connecting material, connection structure and method for producing the same
- Patent Title (中): 电路连接材料,连接结构及其制造方法
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Application No.: PCT/JP2008/065555Application Date: 2008-08-29
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Publication No.: WO2009057376A1Publication Date: 2009-05-07
- Inventor: 中澤 孝 , 有福 征宏 , 小島 和良 , 望月 日臣
- Applicant: 日立化成工業株式会社 , 中澤 孝 , 有福 征宏 , 小島 和良 , 望月 日臣
- Applicant Address: 〒1630449 東京都新宿区西新宿二丁目1番1号 Tokyo JP
- Assignee: 日立化成工業株式会社,中澤 孝,有福 征宏,小島 和良,望月 日臣
- Current Assignee: 日立化成工業株式会社,中澤 孝,有福 征宏,小島 和良,望月 日臣
- Current Assignee Address: 〒1630449 東京都新宿区西新宿二丁目1番1号 Tokyo JP
- Agency: 長谷川 芳樹 et al.
- Priority: JP2007-280224 20071029
- Main IPC: C09J4/00
- IPC: C09J4/00 ; C09J11/06 ; H01B1/22 ; H01L21/60 ; H01R43/00 ; H05K1/14 ; H05K3/32
Abstract:
本発明の回路接続材料は、第一の基板の主面上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の基板の主面上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、第一の回路電極及び第二の回路電極を対向配置させた状態で接続するための回路接続材料であって、遊離ラジカルを発生する硬化剤と、ラジカル重合成物質と、2級チオール基を有する化合物とを含有する。本発明の回路接続材料は、低温短時間硬化が可能で、かつ保存安定性に優れるものである。
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IPC分类: