下記一般式（Ａ）で示される構造を有する含フッ素スルホン酸塩もしくは、含フッ素スルホン酸基含有化合物が開示されている。 【化１０１】 式中、ｎは１～１０の整数を示す。Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１～２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数１～２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基、置換もしくは非置換の炭素数６～１５のアリール基又は炭素数４～１５のヘテロアリール基を示す。ａは１又は０である。前記含フッ素スルホン酸塩もしくは含フッ素スルホン酸基含有化合物を含む光酸発生剤はＡｒＦエキシマレーザー光等に対して高感度で、人体蓄積性にも問題がなく、しかも発生する酸（光発生酸）の酸性度が十分高く、かつ、レジスト溶剤に対する高い溶解性及び樹脂に対する優れた相溶性を有する。