Invention Application
WO2010044372A1 重合性アニオンを有する含フッ素スルホン酸塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
审中-公开
具有可聚合阴离子的含氟磺酸盐及其制造方法，含氟树脂，耐蚀组合物和使用其的图案形成方法
- Patent Title: 重合性アニオンを有する含フッ素スルホン酸塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
- Patent Title (English): Fluorine-containing sulfonates having polymerizable anions and manufacturing method therefor, fluorine-containing resins, resist compositions, and pattern-forming method using same
- Patent Title (中): 具有可聚合阴离子的含氟磺酸盐及其制造方法，含氟树脂，耐蚀组合物和使用其的图案形成方法
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Application No.: PCT/JP2009/067567Application Date: 2009-10-08
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Publication No.: WO2010044372A1Publication Date: 2010-04-22
- Inventor: 増渕 毅 , 森 和規 , 萩原 勇士 , 成塚 智 , 前田 一彦
- Applicant: セントラル硝子株式会社 , 増渕 毅 , 森 和規 , 萩原 勇士 , 成塚 智 , 前田 一彦
- Applicant Address: 〒7550001 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 Yamaguchi JP
- Assignee: セントラル硝子株式会社,増渕 毅,森 和規,萩原 勇士,成塚 智,前田 一彦
- Current Assignee: セントラル硝子株式会社,増渕 毅,森 和規,萩原 勇士,成塚 智,前田 一彦
- Current Assignee Address: 〒7550001 山口県宇部市大字沖宇部５２５３番地 Yamaguchi JP
- Agency: 橋本 剛
- Priority: JP2008-268476 20081017
- Main IPC: C08F20/38
- IPC: C08F20/38 ; C07C303/32 ; C07C309/12 ; C07C381/12 ; G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; H01L21/027
Abstract:
本発明によれば、下記一般式（２）で表される重合性含フッ素スルホン酸オニウム塩およびこれを重合させた重合体が提供される。この本発明のスルホン酸塩樹脂を用いることにより、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（「ＬＥＲ」）が小さく、さらには高感度のレジスト組成物を調製することができる。（式中、Ｚは置換もしくは非置換の炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基又はこのアルキレン基と脂環式炭化水素もしくは芳香族炭化水素から二個の水素原子が脱離して得られる二価の基が直列に結合して得られる二価の基を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１～３のアルキル基もしくは含フッ素アルキル基を表す。Ｑ + は、スルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオンを表す。）
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