-
公开(公告)号：WO2010123000A1
公开(公告)日：2010-10-28
申请号：PCT/JP2010/057007
申请日：2010-04-20
IPC: G03F7/11 , C08F20/22 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/22 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 開示されているのは、レジスト膜上に設けられて、前記レジスト膜を保護するトップコート組成物であって、下記一般式(１)で表される繰返し単位を有する含フッ素重合体を含むことを特徴とするフォトレジスト用トップコート組成物である。この組成物は現像液溶解性の制御が可能であって、且つ、高い撥水性を有する。 [式中、Ｒ 1 は水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基、Ｒ 2 は熱不安定性保護基、Ｒ 3 はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｗは二価の連結基を表す。]
Abstract translation: 公开了一种用于光致抗蚀剂的顶部涂料组合物，其被提供在抗蚀剂膜上并保护抗蚀剂膜。 用于光致抗蚀剂的顶涂层组合物的特征在于含有具有由通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物。 组合物能够具有受控的显影剂溶解度并具有高斥水性。 （式中，R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基，R2表示热不稳定保护基，R3表示氟原子或含氟烷基，W表示二价连接 组。）
-
公开(公告)号：WO2012057219A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/JP2011/074698
申请日：2011-10-26
Applicant: 株式会社牧野フライス製作所 , 川名 啓 , 森 規雄 , 尾田 光成
IPC: G05B19/404 , B23Q15/013
CPC classification number: G05B19/182 , G05B19/404 , G05B2219/41078 , G05B2219/41083 , G05B2219/41155 , G05B2219/41206 , G05B2219/42039 , G05B2219/49182
Abstract: 解決手段工作機械（１０）の送り軸を制御する数値制御装置は、送り軸の移動範囲を複数の領域に分割し、分割された複数の領域のそれぞれに応じた複数の制御パラメータを予め記憶した記憶部（９２）と、ワーク加工時の送り軸の位置を検出する位置検出部と、記憶した複数の制御パラメータから、検出されたワーク加工時の送り軸の位置が属する分割された領域に対応する制御パラメータを読み出すパラメータ選定部（９０）と、該読み出された制御パラメータを用いて送り軸を制御するサーボ制御部（５２）とを有する。これにより、送り軸の位置に依らない安定した加工精度を実現した工作機械の数値制御方法及びその方法を実施する数値制御装置を提供できる。
Abstract translation: 控制解决方案机床（10）的进给轴的该数控装置具有：将进给轴的运动范围分成多个区域的记录单元（92），并且预先记录多个 分别对应于分割的多个区域的控制参数; 位置检测单元，其在加工加工期间检测进给轴的位置; 参数选择单元，从记录的多个控制参数中读取对应于加工中进给轴的检测位置所属的分割区域的控制参数; 以及使用已经读取的控制参数来控制进给轴的伺服控制单元（52）。 结果，可以提供一种机床的数值控制方法，并且实现不依赖于进给轴位置的稳定的加工精度，以及实现该方法的数控装置。
-
公开(公告)号：WO2010140483A1
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/JP2010/058540
申请日：2010-05-20
IPC: C08F20/22 , C07C69/653 , C07C69/732 , C08F12/14 , C08F16/12 , C08F32/08 , G03F7/039 , G03F7/11
CPC classification number: C07C69/653 , C07C69/675 , C07C69/732 , C07C2602/42 , C07C2603/68 , C08F220/24 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本発明の含フッ素高分子化合物は、一般式（２）で表される繰り返し単位（ａ）を含み、質量平均分子量１，０００～１，０００，０００の樹脂である。該樹脂は、３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、及び液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に好適に使用でき、撥水性、特に後退接触角が大きいことを特徴とする。 （式中、Ｒ 1 は重合性二重結合含有基を示し、Ｒ 2 はフッ素原子又は含フッ素アルキル基を示し、Ｒ 8 は置換もしくは非置換のアルキル基などを示し、Ｗ 1 は単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを示す。）
Abstract translation: 所公开的含氟聚合物化合物是含有质量平均分子量为1,000〜1,000,000的由通式（2）表示的重复单元（a）的树脂。 所述树脂适合用于使用电子束或波长为300nm以下的高能射线形成图案的抗蚀剂组合物和用于液浸光刻的面漆组合物。 所述树脂的特征在于具有防水性，特别是大的后退接触角。 （式中，R1表示含有可聚合双键的基团，R2表示氟原子或含氟烷基，R8表示取代或未取代的烷基等，W1表示单键， 取代或未取代的亚甲基等）
-
公开(公告)号：WO2012057235A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/JP2011/074728
申请日：2011-10-26
Applicant: 株式会社牧野フライス製作所 , 川名 啓 , 森 規雄 , 尾田 光成
IPC: G05B19/404 , B23Q15/013 , G05B11/32 , G05B13/02
CPC classification number: G05B13/024 , G05B5/01 , G05B19/19 , G05B19/416 , G05B2219/36176 , G05B2219/42114
Abstract: サーボ制御部（５２）により工作機械（１０）の送り軸を駆動する数値制御方法において、送り軸のサーボ制御部（５２）の動作をモデル化して伝達関数を求め、送り軸の周波数応答を用いて、工作機械のサーボ制御部（５２）における位置ループの閉ループ伝達関数（Ｇ BP ）および速度ループの閉ループ伝達関数のうちの少なくとも一方を測定し、測定された閉ループ伝達関数を用いて位置ループの制御対象（Ｐ P ）および速度ループの制御対象のうちの少なくとも一方を求め、制御対象から位置ループのモデル化誤差（ΔＰ P ）および速度ループのモデル化誤差のうちの少なくとも一方を求め、閉ループ伝達関数およびモデル化誤差のうちの少なくとも一方を用いてサーボ制御部（５２）の少なくとも一つの制御パラメータを算出するようにした。これにより、送り軸の状態に応じた最適な複数の制御パラメータを簡単かつ自動で求める。
Abstract translation: 在通过伺服控制单元（52）驱动机床（10）的进给轴的数值控制方法中，通过对进给轴的伺服控制单元（52）的操作进行建模来确定传动功能， 使用进给轴的频率响应来测量机床的伺服控制单元（52）的速度环的位置回路的闭环传递功能（GBP）和/或闭环传递功能，控制对象 使用所测量的闭环传递函数来确定位置环和/或速度环路的控制对象的位置环（PP）和/或控制对象的位置环建模误差（ΔPP）和/或速度环建模误差 并且使用闭环传递函数和/或建模误差来计算伺服控制单元（52）的至少一个控制参数。 结果，容易且自动地确定与供给轴的状态对应的最佳多个控制参数。
-
公开(公告)号：WO2010137472A1
公开(公告)日：2010-12-02
申请号：PCT/JP2010/058208
申请日：2010-05-14
IPC: G03F7/004 , C08F20/26 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , C08F20/26 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 開示されているのは、下記一般式（１）で表される繰返し単位を有する含フッ素重合体からなる液浸レジスト用撥水性添加剤である。この撥水性添加剤をレジスト組成物に添加することにより、露光時には高い撥水性を有し、且つ、現像時には現像液溶解性を向上させるように制御可能である。 ［式中、Ｒ 1 は水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基、Ｒ 2 は熱不安定性保護基、Ｒ 3 はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｗは二価の連結基を表す。］
Abstract translation: 公开了一种浸渍抗蚀剂的防水添加剂，其由具有由通式（1）表示的重复单元的含氟聚合物组成。 通过将防水添加剂加入到抗蚀剂组合物中，可以将抗蚀剂组合物控制为在曝光期间具有高的拒水性，并且在显影期间在显影剂中显示出改进的溶解性。 （式中，R1表示氢原子，氟原子，甲基或三氟甲基，R2表示热不稳定保护基，R3表示氟原子或含氟烷基，W表示二价连接 组。）
-
Patent Agency Ranking6.发明申请重合性アニオンを有する含フッ素スルホン酸塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 审中-公开具有可聚合阴离子的含氟磺酸盐及其制造方法，含氟树脂，耐蚀组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：WO2010044372A1
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：PCT/JP2009/067567
申请日：2009-10-08
IPC: C08F20/38 , C07C303/32 , C07C309/12 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C303/32 , C07C309/12 , C07C309/20 , C07C381/12 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/30 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , C08F220/28
Abstract: 本発明によれば、下記一般式（２）で表される重合性含フッ素スルホン酸オニウム塩およびこれを重合させた重合体が提供される。この本発明のスルホン酸塩樹脂を用いることにより、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（「ＬＥＲ」）が小さく、さらには高感度のレジスト組成物を調製することができる。（式中、Ｚは置換もしくは非置換の炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基又はこのアルキレン基と脂環式炭化水素もしくは芳香族炭化水素から二個の水素原子が脱離して得られる二価の基が直列に結合して得られる二価の基を表す。Ｒは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１～３のアルキル基もしくは含フッ素アルキル基を表す。Ｑ + は、スルホニウムカチオン又はヨードニウムカチオンを表す。）
Abstract translation: 提供由式（2）表示的可聚合的含氟磺酸鎓盐和其中已经聚合的聚合物。 通过使用本发明的磺酸树脂，可以制备出优异的分辨率，宽焦深允许（DOF），小线边缘粗糙度（“LER”）和高灵敏度的抗蚀剂组合物。 （式中，Z表示取代或未取代的1-6碳直链或支链亚烷基或通过将所述亚烷基与通过从脂环族或芳族烃中除去两个氢原子获得的二价基团连接而获得的二价基团。 表示氢原子，卤素原子或1-3碳烷基或含氟烷基，Q +表示锍阳离子或碘鎓阳离子。
-
公开(公告)号：WO2010007910A1
公开(公告)日：2010-01-21
申请号：PCT/JP2009/062278
申请日：2009-07-06
Applicant: セントラル硝子株式会社 , 永盛 将士 , 藤原 昌生 , 森 和規 , 成塚 智
IPC: C07C309/12 , C07C303/22 , C07C309/82 , C07C381/12 , C07D209/76 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC classification number: C07C381/12 , C07C25/18 , C07C303/22 , C07C309/12 , C07C309/82 , C07C2603/74 , C07D209/76 , C07D311/78 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 下記一般式（１）で表される構造を有する含フッ素スルホン酸塩もしくは含フッ素スルホン酸基含有化合物が提供される。このような塩もしくは化合物は、好適な光酸発生剤として作用し、感度、解像度及びマスク依存性の優れたレジストパターンを形成することができる。 〔一般式（１）において、Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１～３０の直鎖状もしくは分岐状の１価の炭化水素基、置換もしくは非置換の炭素数３～３０の環状もしくは環状の部分構造を有する１価の炭化水素基、置換もしくは非置換の炭素数６～３０のアリール基または置換もしくは非置換の炭素数４～３０の１価のヘテロ環状有機基を表す。〕
Abstract translation: 公开了具有氟化磺酸基的氟化磺酸盐或具有通式（1）表示的结构的化合物。 盐或化合物可以用作合适的光酸发生剂，并且能够形成具有优异的灵敏度，分辨率和掩模依赖性的抗蚀剂图案。 [通式（1）中，R表示取代或未取代的碳原子数为1〜30的直链或支链一价烃基，取代或未取代的碳原子数为3〜30的环状或具有环状部分结构的一价烃基 取代或未取代的碳原子数6〜30的芳基，取代或未取代的碳原子数为4〜30的一价杂环有机基。
-
公开(公告)号：WO2012057231A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/JP2011/074722
申请日：2011-10-26
Applicant: 株式会社牧野フライス製作所 , 川名 啓 , 森 規雄 , 尾田 光成
IPC: G05B19/404
CPC classification number: G05B19/182 , G05B19/404 , G05B2219/41078 , G05B2219/41084 , G05B2219/41115
Abstract: 数値制御工作機械の送り軸反転時に生ずる象限突起を補正する象限突起補正方法は、数値制御工作機械のＮＣプログラムから、サーボモータに指令されるべき位置指令を現在の位置指令から所定時間後の位置指令まで所定の制御周期毎に記憶部に記憶し、記憶された位置指令に基づいて反転補正指令を算出し、サーボモータの動作により得られる情報に基づいて、反転補正指令をサーボモータの速度指令またはトルク指令に付加する時刻を、サーボモータの反転時刻から繰上げる繰上時間を算出し、サーボモータの反転時刻よりも繰上時間だけ繰上げた時刻に反転補正指令をサーボモータの速度指令またはトルク指令に付加して象限突起を補正する。これにより、象限突起を高精度で補正することのできる象限突起補正方法を提供できる。
Abstract translation: 用于校正在数控机床的进给轴反转期间产生的象限投影的象限投影校正的方法将用于命令伺服电机并来自数控机床的NC程序的位置命令记录在存储器中 从当前位置命令到预定时间之后的位置命令的每个预定控制周期的单位，基于记录位置命令计算反转校正命令，计算反转校正命令的时间 应用于伺服电动机的速度指令或转矩指令，根据伺服电动机的动作得到的信息，从伺服电动机的反转时间开始，并通过向反转校正指令 伺服电机的速度指令或转矩指令 从伺服电机的反转时间开始。 结果，可以提供能够高精度地正确象限投影的象限投影校正的方法。
-
公开(公告)号：WO2010073934A1
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：PCT/JP2009/070865
申请日：2009-12-15
IPC: C08F20/36 , C07C235/06 , C08F12/26 , C08F16/28 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C235/08 , C07C235/06 , C08F20/22 , C08F220/36 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10T428/24802 , C08F220/28
Abstract: 下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む重量平均分子量１，０００～１，０００，０００の含フッ素高分子化合物が開示されている。 式中、Ｒ 1 は重合性二重結合含有基、Ｒ 2 はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｒ 3 及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、Ｗ 1 は連結基を表す。３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物に前記含フッ素高分子化合物を使用すると、矩形性のよいパターンを形成できる。
Abstract translation: 一种含氟聚合物化合物，其含有由通式（2）表示的重均单元（a），重均分子量为1,000〜1,000,000。 在通式（2）中，R 1表示含有可聚合双键的基团; R2表示氟原子或氟代烷基; R3表示氢原子，酸不稳定基团，可交联基团或其它一价有机基团; W1表示连接基团。 通过在使用波长为300nm以下的高能量射线或电子束的图案化用抗蚀剂组合物中使用上述含氟聚合物化合物，可以形成具有优选的矩形形状的图案 。
-
公开(公告)号：WO2010035747A1
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：PCT/JP2009/066527
申请日：2009-09-24
IPC: C07C67/317 , C07C69/65
CPC classification number: C07C67/317 , C07C67/327 , C07C69/65
Abstract: α－トリフルオロメチル－α－ヒドロキシエステル類を有機塩基の存在下にスルフリルフルオリド（ＳＯ 2 Ｆ 2 ）と反応させることにより、α－トリフルオロメチル－α，β－不飽和エステル類が製造できる。原料基質としては、β位置換基の片方が水素原子であり、他方がアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、芳香環基または置換芳香環基であり、さらにエステル基がアルキルエステルである場合がより好ましい。該原料基質は入手が容易であり、所望の反応が良好に進行する。有機塩基としては、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノン－５－エン（ＤＢＮ）または１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセ－７－エン（ＤＢＵ）がより好ましい。該有機塩基を用いることにより、所望の反応がさらに良好に進行する。
Abstract translation: α-三氟甲基-α，β-不饱和酯可以通过在有机碱的存在下使α-三氟甲基-α-羟基酯与硫酰氟（SO 2 F 2）反应来制备。 在原料基材中，更优选位置-β处的取代基之一为氢原子，另一个为烷基，取代的烷基，烯基，取代的烯基，芳族环状基团或 取代的芳环基，酯基为烷基酯。 原料基材容易获得，因此期望的反应可令人满意地进行。 有机碱优选为1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯（DBN）或1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯（DBU）。 通过使用有机碱可以更令人满意地进行所需的反应。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.025 seconds)
