Invention Application
- Patent Title: VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER DREIDIMENSIONALEN LEITERBAHNSTRUKTUR SOWIE EINE NACH DIESEM VERFAHREN HERGESTELLTE LEITERBAHNSTRUKTUR
- Patent Title (English): Method for producing a three-dimensional conductor trace structure and a conductor trace structure produced according to this method
- Patent Title (中): 用于生产用这种方法生产的导体结构三维导体结构AND A
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Application No.: PCT/DE2013/100216Application Date: 2013-06-13
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Publication No.: WO2013189486A1Publication Date: 2013-12-27
- Inventor: OSTHOLT, Roman , JOHN, Wolfgang , KRÜGER, Robin, Alexander , RÖSENER, Bernd , SCHNOOR, Arne
- Applicant: LPKF LASER & ELECTRONICS AG
- Applicant Address: Osteriede 7 30827 Garbsen DE
- Assignee: LPKF LASER & ELECTRONICS AG
- Current Assignee: LPKF LASER & ELECTRONICS AG
- Current Assignee Address: Osteriede 7 30827 Garbsen DE
- Agency: PATENTANWALTSKANZLEI SCHEFFLER
- Priority: DE10 20120619; DE10 20120629
- Main IPC: H05K3/10
- IPC: H05K3/10
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Leiterbahnstruktur (4) auf einem dielektrischen Trägermaterial (1). Dabei wird das Trägermaterial (1) zunächst mit einer flächigen Beschichtung (2) versehen. In der Beschichtung (2) sind nanoskalige Partikel enthalten, die als einen wesentlichen Materialanteil Metalloxide, beispielsweise Kupferoxide enthalten, die mit einem geeigneten Reduktionsmittel beschichtet sind. Anschließend wird die Beschichtung (2) selektiv einer elektromagnetischen Strahlung eines Lasers (3) ausgesetzt. Dadurch kommt es aufgrund der selektiven Strahlungseinwirkung zu einem Versintern von in der Beschichtung (2) enthaltenen oder in situ erzeugten Partikeln, wobei sich die Leiterbahnstruktur (4) ausbildet.
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