本発明の目的は、スパッタリング時の成膜特性安定化をより高めるため、ターゲットにおいて、金又は白金の平均結晶粒径が小さく、かつ、ターゲット面の面内方向及びターゲットの厚さ方向の結晶粒径が均一なターゲットを作製することである。本発明に係る金又は白金ターゲットの製造方法は、溶融した金又は白金を注湯してインゴットを得るインゴット作製工程と、第一温度範囲において、インゴットを鍛造する一次鍛造工程と、一次鍛造インゴットを、第一温度範囲よりも低く、かつ、第二温度範囲に冷却する工程と、冷却した一次鍛造インゴットを、六方向を決めて前記第二温度範囲にて六方向からさらに鍛造する二次鍛造工程と、二次鍛造インゴットを第三温度範囲に調整してクロス圧延加工を行ない、ターゲット形状とするクロス圧延加工工程と、ターゲット形状のインゴットを第四温度範囲にて熱処理する熱処理工程と、を有する。