本発明の課題は、レーザー光に対する樹脂膜の感度が高い、レーザーアブレーション法を用いた絶縁膜の製造方法を提供することにある。本発明の絶縁膜の製造方法は、式（Ａ１）で表される繰り返し構造単位を有するポリアリーレン（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含有する樹脂組成物の樹脂膜を基板上に形成する工程１と、樹脂膜を加熱処理する工程２と、レーザーアブレーション法により、加熱後の樹脂膜にパターンを形成する工程３とを有する。 ［式（Ａ１）中、Ａｒは芳香族環であり；水酸基は前記芳香族環に結合する置換基であり；Ｒ 1 は前記芳香族環に結合する置換基であり、ハロゲン原子または炭素数１～１０のアルキル基であり、Ｒ 1 は、複数存在する場合、互いに同一でもよく異なっていてもよく；ａは１以上の整数であり、ｂは０以上の整数である。］