公开(公告)号：WO2005101129A1

公开(公告)日：2005-10-27

申请号：PCT/JP2005/007123

申请日：2005-04-13

Applicant: JSR株式会社 ,  西村 功 ,  千葉 隆 ,  下川 努

Inventor： 西村 功 ,  千葉 隆 ,  下川 努

IPC: G03F7/075

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0757

Abstract: 　１９３ｎｍ以下の波長において透明性が高く、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた化学増幅型レジストとして、保存後の感度変化が著しく抑制された感放射線性樹脂組成物を提供する。 　感放射線性樹脂組成物は、（イ）下記式（Ｉ）で表される構造単位（Ｉ）および／または下記式（II）で表される構造単位（II）を有するシロキサン樹脂、（ロ）感放射線性酸発生剤、並びに（ハ）溶剤を含有し、樹脂組成物中の（イ）～（ハ）成分以外の含窒素化合物の含有率が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 　　【化１】 （ＡおよびＢは直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の（置換）炭化水素基を示し、Ｒ 1  は１価の酸解離性基を示し、Ｒ 2  は水素原子または１価の酸解離性基を示す。）

Abstract translation: 公开了对波长不大于193nm高度透明的特别适合于具有优异的焦深（DOF）的化学放大型抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物。 此外，在该放射线敏感性树脂组合物中，抑制了储存后的灵敏度变化。 辐射敏感性树脂组合物的特征在于，其含有（i）具有由下式（I）表示的结构单元（I）和/或由下式（II）表示的结构单元（II））的硅氧烷树脂 ，（ii）辐射敏感性酸产生剂和（iii）溶剂，除了组分（i） - （iii）以外的含氮化合物的含量不超过100ppm。 （I）（II）（上式中，A和B分别表示直链，支链或环状二价（取代）烃基，R 1表示一价酸可裂解基团，R 2表示 氢原子或一价酸可裂解基团。）

公开(公告)号：WO2004061525A1

公开(公告)日：2004-07-22

申请号：PCT/JP2003/016640

申请日：2003-12-24

Applicant: JSR株式会社 ,  西村 功 ,  藤原 考一 ,  小林 英一 ,  下川 努 ,  中村 敦 ,  米田 英司 ,  王 勇

Inventor： 西村 功 ,  藤原 考一 ,  小林 英一 ,  下川 努 ,  中村 敦 ,  米田 英司 ,  王 勇

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2006

Abstract: 　アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる特定の構造を有し、リビングラジカル重合により得られる酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、　上記酸解離性基含有樹脂の重量平均分子量と数平均分子量との比（重量平均分子量／数平均分子量）が１．５よりも小さい感放射線性樹脂組成物。

Abstract translation: 一种辐射敏感性树脂组合物，其特征在于，具有不溶解或易溶于碱的具有酸解离性基团的树脂，具有通过酸作用使树脂碱溶性的特定结构，通过活性自由基聚合得到; 和辐射敏感性酸产生剂，其中重均分子量与具有酸解离基的树脂的数均分子量的比[（重均分子量）/（数均分子量）] 为1.5以下。

公开(公告)号：WO2005037846A1

公开(公告)日：2005-04-28

申请号：PCT/JP2004/015150

申请日：2004-10-14

Applicant: JSR株式会社 ,  西村 功 ,  山原 登 ,  田中 正人 ,  下川 努

Inventor： 西村 功 ,  山原 登 ,  田中 正人 ,  下川 努

IPC: C07F7/18

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C07F7/0852 ,  C07F7/1836 ,  C08G77/14 ,  C08G77/24 ,  G03F7/0045

Abstract: Disclosed is a novel polysiloxane which is suitable for a resin component in a chemically amplified resist that is particularly excellent in I-D bias, depth of focus (DOF) and the like. Also disclosed are a novel silane compound useful as a raw material for synthesizing such a polysiloxane, and a radiation-sensitive resin composition containing such a polysiloxane. The silane compound is represented by the following formula (I). (I) The polysiloxane has a constitutional unit represented by the following formula (1). (1) (R represents an alkyl group; R and R respectively represent a fluorine atom, a lower alkyl group or a lower fluorinated alkyl group; n is 0 or 1; k is 1 or 2; and i is an integer of 0-10.) The radiation-sensitive resin composition contains such a polysiloxane and a radiation-sensitive acid generator.

Abstract translation: 公开了适用于I-D偏压，深度聚焦（DOF）等特别优异的化学增幅抗蚀剂中的树脂成分的新型聚硅氧烷。 还公开了可用作合成这种聚硅氧烷的原料的新型硅烷化合物和含有这种聚硅氧烷的辐射敏感性树脂组合物。 硅烷化合物由下式（I）表示。 （I）聚硅氧烷具有由下式（1）表示的结构单元。 （1）（R表示烷基; R 1和R 2分别表示氟原子，低级烷基或低级氟代烷基; n为0或1; k为1或2; i 是0-10的整数。）辐射敏感性树脂组合物含有这种聚硅氧烷和辐射敏感的酸发生剂。

公开(公告)号：WO2007066653A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：PCT/JP2006/324249

申请日：2006-12-05

Applicant: JSR株式会社 ,  西村 功 ,  杉江 紀彦 ,  夏目 紀浩 ,  高橋 純一

Inventor： 西村 功 ,  杉江 紀彦 ,  夏目 紀浩 ,  高橋 純一

IPC: C08G77/12 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08G77/12 ,  C08G77/14 ,  G03F7/0045

Abstract: 　下記の一般式（Ｉ）、及び一般式（ＩＩ）で表されるシラン化合物を、水の存在下、重縮合することにより得られる、下記の一般式（ＩＩＩ）、及び下記の式（ＩＶ）で表される構造単位を有するポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。 （式中、各Ｒ １ 、Ｒ ２ 、Ｒ ３ 、及び各Ｒ ４ の定義は明細書に記載のとおりである。）

Abstract translation: 公开了具有下述通式（III）或通式（IV）表示的结构单元的聚硅氧烷，其通过以下通式（I）或通式（II）表示的硅烷化合物的缩聚获得： 的水。 还公开了含有这种聚硅氧烷和辐射敏感性酸发生剂的辐射敏感性树脂组合物。 （式中，R 1，R 2，R 3，R 4和R 4如在说明书中所定义） 。）

公开(公告)号：WO2004040376A1

公开(公告)日：2004-05-13

申请号：PCT/JP2003/013560

申请日：2003-10-23

Applicant: JSR株式会社 ,  西村 幸生 ,  石井 寛之 ,  西村 功 ,  小林 英一

Inventor： 西村 幸生 ,  石井 寛之 ,  西村 功 ,  小林 英一

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/114

Abstract: A radiation-sensitive resin composition which is useful as a chemically amplified resist in microfabrication with various radiations including far ultraviolet rays such as KrF excimer laser and ArF excimer laser. The composition comprises [A] a resin comprising repeating units represented by the general formula(I-1), [B] a radiation-sensitive acid generator (such as 1-(4-n-butoxynaphthyl)tetrahydrothiophenium nonafluoro-n -butanesulfonate), and, if necessary, [C] an acid diffusion controller (such as phenylbenzimidazole).

Abstract translation: 一种辐射敏感性树脂组合物，其可用于具有包括远紫外线的各种辐射的微细加工中的化学放大抗蚀剂，例如KrF准分子激光和ArF准分子激光。 该组合物包含[A]包含由通式（I-1）表示的重复单元的树脂，[B]辐射敏感性酸产生剂（例如1-（4-正丁氧基萘基）四氢噻吩 - 六氟 - 正丁磺酸盐） ，如果需要，[C]酸扩散控制剂（如苯基苯并咪唑）。

公开(公告)号：WO2005087841A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：PCT/JP2005/004747

申请日：2005-03-17

Applicant: JSR株式会社 ,  西村 功 ,  杉浦 誠 ,  田中 正人

Inventor： 西村 功 ,  杉浦 誠 ,  田中 正人

IPC: C08G77/14

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08G77/14 ,  C08G77/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

Abstract: The invention provides a siloxane resin which exhibits high transparency at a wavelength of 193nm or below and is extremely favorable as the resin component of radiation -sensitive resin compositions useful in the production of LSI's and a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist which is excellent in depth of focus (DOF) and little suffers development defects. The siloxane resin is one containing in the same molecule structural units (I) represented by the general formula (I) and structural units (II) represented by the general formula (II) wherein the contents of the units (I) and (II) are respectively above 0 mole % but do not exceed 70 mole % [wherein A and B are each a divalent, straight-chain, branched, or cyclic hydrocarbon group; R is a monovalent acid-dissociable group; and R is straight-chain, branched, or cyclic alkyl]. The radiation-sensitive resin composition comprises (i) a siloxane resin described above and (ii) a radiation -sensitive acid generator.

Abstract translation: 本发明提供一种硅氧烷树脂，其在193nm以下的波长下显示高透明性，并且作为用于制造LSI的辐射敏感性树脂组合物的树脂组分和用作化学放大抗蚀剂的辐射敏感性树脂组合物是非常有利的 其优异的深度焦点（DOF），并且几乎没有发展缺陷。 硅氧烷树脂是同一分子中含有由通式（I）表示的结构单元（I）和由通式（II）表示的结构单元（II），其中单元（I）和（II） 分别高于0摩尔％但不超过70摩尔％[其中A和B各自为二价，直链，支链或环状烃基; R 1是一价酸解离基团; 和R 2是直链，支链或环状烷基]。 辐射敏感性树脂组合物包含（i）上述硅氧烷树脂和（ii）辐射敏感性酸发生剂。

公开(公告)号：WO2004078703A1

公开(公告)日：2004-09-16

申请号：PCT/JP2004/001973

申请日：2004-02-20

Applicant: JSR株式会社 ,  江幡 敏 ,  王 勇 ,  西村 功

Inventor： 江幡 敏 ,  王 勇 ,  西村 功

IPC: C07C309/23

CPC classification number: C07C309/19 ,  C07C309/17 ,  C07C309/23 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D207/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

Abstract: The invention provides novel acid generators which are unproblematic in combustibility and accumulation inside the human body and can generate acids having high acidities and high boiling points and exhibiting properly short diffusion lengths in resist coating films and which permit the formation of resist patterns excellent smoothness with little dependence on the denseness of a mask pattern; sulfonic acids generated from the acid generators; sulfonyl halides useful as raw material in the synthesis of the acid generators; and radiation-sensitive resin compositions containing the acid generators. The acid generators have structures represented by the general formula (I): (I) [wherein R is a monovalent substituent such as alkoxycarbonyl, alkylsulfonyl, or alkoxysulfonyl; R to R are each hydrogen or alkyl; k is an integer of 0 or above; and n is an integer of 0 to 5]. Among the radiation-sensitive resin compositions, a positive one contains a resin having acid-dissociable groups in addition to the above acid generator, while a negative one contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent in addition to the acid generator.

Abstract translation: 本发明提供了新颖的酸产生剂，其在人体内的可燃性和积聚中是无问题的，并且可以产生具有高酸度和高沸点的酸，并且在抗蚀剂涂膜中显示适当短的扩散长度，并且允许形成抗蚀剂图案，具有极好的平滑性 依赖于掩模图案的致密度; 酸产生器产生的磺酸; 用于合成酸发生剂的原料的磺酰卤; 和含有酸发生剂的辐射敏感性树脂组合物。 酸产生剂具有由通式（I）表示的结构：（I）[其中R 1是一价取代基，例如烷氧基羰基，烷基磺酰基或烷氧基磺酰基; R 2至R 4各自为氢或烷基; k为0以上的整数; n为0〜5的整数]。 在辐射敏感性树脂组合物中，除了上述酸发生剂之外，阳性物质还含有具有酸解离性基团的树脂，而除酸产生剂之外，还含有碱溶性树脂和交联剂。