レーザ加工方法及びレーザ加工システム
摘要:
紫外線のパルスレーザ光を出力するレーザ装置と、パルスレーザ光を透過する転写パターンが形成された転写マスクと、パルスレーザ光が転写パターンを透過することによって形成され転写パターンに応じた形状の転写像を転写する転写光学系とを備えたレーザ加工システムを用いて、紫外線に対して透明な透明材料に対してレーザ加工を施すレーザ加工方法は、以下のステップを備える:A.パルスレーザ光の光軸方向において、転写光学系によって転写される転写像の転写位置と、透明材料との相対的な位置決めを行う位置決めステップであって、転写位置が、光軸方向において透明材料の表面から所定の深さΔZsfだけ透明材料の内部に進入した位置となるように位置決めを行う位置決めステップ;B.パルス幅が1~100nsの範囲であって、かつ、転写位置でのビームの直径が10μm以上150μm以下のパルスレーザ光を透明材料に照射する照射ステップ。
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