ガス放電チャンバ
    1.
    发明申请
    ガス放電チャンバ 审中-公开
    气体放电室

    公开(公告)号:WO2009125745A1

    公开(公告)日:2009-10-15

    申请号:PCT/JP2009/057064

    申请日:2009-04-06

    Abstract:  機械応力(ウインドウホルダやレーザガス圧力)及び光の吸収による熱応力等により破損する現象を低減し、出力レーザの直線偏光度を高くすると共に、強い紫外線(特にArF)レーザ光照射による劣化を抑制するフッ化カルシウム結晶を用いたガス放電チャンバを提供する。ガス放電チャンバの第1ウィンドウ(2)及び第2ウィンドウ(3)は、入射平面及び射出平面がフッ化カルシウム結晶の(111)結晶面に平行であり、チャンバ(1)内部から見て、フッ化カルシウム結晶内に入射したレーザ光が、第1ウィンドウ(2)及び第2ウィンドウ(3)それぞれの<111>軸と<001>軸を含む面を通過する配置に対して、第1ウィンドウ(2)及び第2ウィンドウ(3)は、<111>軸を中心として同じ角度回転した位置に設置されることを特徴とする。

    Abstract translation: 公开了一种使用氟化钙晶体的气体放电室,减少了机械应力(窗口支架或激光气体压力)的损伤和光吸收的热应力,增加了输出激光器的线性极化,并抑制了强烈的紫外线 (特别是ArF)激光照射。 气体放电室的第一窗口(2)和第二窗口(3)的入射面和出射面与氟化钙晶体的(111)晶面平行。 对于进入氟化钙晶体内部的激光穿过包括第一窗口(2)和第二窗口(3)的<111>轴和<001>轴的平面的布置,从内部观察 (1),第一窗口(2)和第二窗口(3)设置在以<111>轴为中心的相同角度旋转的位置。

    露光用2ステ-ジレ-ザ装置
    2.
    发明申请
    露光用2ステ-ジレ-ザ装置 审中-公开
    2级激光装置曝光

    公开(公告)号:WO2004095661A1

    公开(公告)日:2004-11-04

    申请号:PCT/JP2004/005490

    申请日:2004-04-16

    CPC classification number: H01S3/2308 G03F7/70025 H01S3/083

    Abstract: 本発明は、MOPO方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒ−レンスを低くした半導体露光装置用に適した2ステ−ジレ−ザ装置に関するものであり、発振段レ−ザ(50)と増幅段レ−ザ(60)とからなる露光用2ステ−ジレ−ザ装置であって、発振段レ−ザ(50)として発振レ−ザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レ−ザ(60)は入力側ミラ−(1)と出力側ミラ−(2)とからなるファブリペロ−エタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成している。

    Abstract translation: 提供了适用于具有高稳定性,高输出效率和MOPO方法的窄线宽度以及低空间相干性的半导体曝光装置的2级激光装置。 用于曝光的2级激光器件包括振荡级激光器(50)和放大级激光器(60)。 振荡台激光器(50)振荡具有发散的激光束。 放大级激光器(60)包括由输入侧反射镜(1)和输出侧反射镜(2)组成的法布里 - 珀罗标准具共振器,谐振器构成稳定的谐振器。

    2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び2ステージレーザシステム
    3.
    发明申请
    2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び2ステージレーザシステム 审中-公开
    两级激光脉冲能量控制装置和两级激光系统

    公开(公告)号:WO2005015699A1

    公开(公告)日:2005-02-17

    申请号:PCT/JP2004/011434

    申请日:2004-08-09

    Abstract:  発振用レーザ100のパルスエネルギーPoscが増幅飽和領域の下限エネルギーEs0以上になるように、発振用レーザ100の発振用高電圧パルス発生器12に設けられた主コンデンサC0への充電電圧Voscを一定制御する。そして、増幅用レーザ300の増幅用高電圧パルス発生器32に設けられた主コンデンサC0への充電電圧Vampを制御し、増幅用レーザ300のパルスエネルギーPampを目標エネルギーPatgtにする。こうして2ステージレーザのパルスエネルギー制御を行いパルスエネルギーを安定させる。

    Abstract translation: 被控制为恒定值的充电电压Vosc被提供给布置在用于振荡振荡激光器(100)的高电压脉冲发生器(12)中的主电容器C0,使得振荡激光器(100)的脉冲能量Posc不是 小于放大饱和区域的下限能量Es0。 此外,通过控制提供给布置在用于放大放大激光器(300)的高压脉冲发生器(32)中的主电容器C0的充电电压Vamp,将放大激光器(300)的脉冲能量Pamp设定为目标 能源公司 因此,通过进行两级激光脉冲能量控制,能够稳定脉冲能量。

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