Invention Application
- Patent Title: p型不純物拡散組成物とその製造方法、それを用いた半導体素子の製造方法および太陽電池
- Patent Title (English): P-TYPE IMPURITY DIFFUSION COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAID DIFFUSION COMPOSITION, AND SOLAR BATTERY
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Application No.: PCT/JP2019/046319Application Date: 2019-11-27
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Publication No.: WO2020116270A1Publication Date: 2020-06-11
- Inventor: 北田剛 , 橘邦彦 , 秋本旭
- Applicant: 東レ株式会社
- Applicant Address: 〒1038666 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 Tokyo JP
- Assignee: 東レ株式会社
- Current Assignee: 東レ株式会社
- Current Assignee Address: 〒1038666 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 Tokyo JP
- Priority: JP2018-229582 20181207
- Main IPC: H01L31/18
- IPC: H01L31/18 ; H01L31/077 ; H01L21/225
Abstract:
半導体基板への均一な拡散と塗布液の保存安定性の向上を可能とするp型不純物拡散組成物を提供することを課題とする。 (a)ポリビニルアルコールおよびポリエチレンオキサイドから選ばれる少なくとも1つの樹脂、 (b)溶媒、および (c)第13族元素を含む化合物 を含むp型不純物拡散組成物であって、組成物のpHが4~6.5であり、(b)溶媒が、(b-1)沸点110℃以上、210℃以下の有機溶媒と(b-2)水とを含み、(b-2)水の量が(b)溶媒中の10~50質量%であることを特徴とするp型不純物拡散組成物。
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IPC分类: