Invention Application
WO2020197082A1 기판 건조 챔버
审中-公开
- Patent Title: 기판 건조 챔버
- Patent Title (English): SUBSTRATE DRYING CHAMBER
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Application No.: PCT/KR2020/001767Application Date: 2020-02-07
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Publication No.: WO2020197082A1Publication Date: 2020-10-01
- Inventor: 신희용 , 윤병문
- Applicant: 무진전자 주식회사
- Applicant Address: 07237 서울시 영등포구 은행로 3, 10층, Seoul KR
- Assignee: 무진전자 주식회사
- Current Assignee: 무진전자 주식회사
- Current Assignee Address: 07237 서울시 영등포구 은행로 3, 10층, Seoul KR
- Agency: 특허법인(유한) 다래
- Priority: KR10-2019-0033593 20190325
- Main IPC: H01L21/67
- IPC: H01L21/67 ; H01L21/683 ; H01L21/68
Abstract:
본 발명은 기판 건조 챔버에 관한 것이다. 본 발명은 상부 하우징, 하부 하우징, 실링부, 기판 배치판, 건조용 초임계유체의 공급경로를 제공하는 상부 공급포트, 초기 가압용 초임계유체의 공급경로 및 건조용 초임계유체의 공급에 따른 건조 후 건조용 초임계유체에 유기용제가 용해된 혼합유체의 배출경로를 제공하는 일체형 공급/배출포트 및 상부 공급포트의 종단에 결합되어 혼합유체가 상부 공급포트로 역류되는 것을 방지하는 체크 밸브를 포함한다. 본 발명에 따르면, 건조용 초임계유체의 공급과 건조용 초임계유체에 유기용제가 용해된 혼합유체의 배출이 반복되는 플러싱(flushing) 공정 완료 후, 혼합유체의 배출(감압) 시, 혼합유체가 상 분리(phase separation)되어 기판에 입자상 오염을 유발하는 것을 방지할 수 있다.
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IPC分类: