发明申请
- 专利标题: 存储单元及其制作方法及三维存储器
- 专利标题(英): STORAGE UNIT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND THREE-DIMENSIONAL MEMORY
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申请号: PCT/CN2019/098146申请日: 2019-07-29
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公开(公告)号: WO2021016791A1公开(公告)日: 2021-02-04
- 发明人: 张刚 , 霍宗亮
- 申请人: 中国科学院微电子研究所
- 申请人地址: 中国北京市朝阳区北土城西路3号, Beijing 100029 CN
- 专利权人: 中国科学院微电子研究所
- 当前专利权人: 中国科学院微电子研究所
- 当前专利权人地址: 中国北京市朝阳区北土城西路3号, Beijing 100029 CN
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 主分类号: H01L27/1157
- IPC分类号: H01L27/1157 ; H01L27/11582 ; H01L27/115
摘要:
一种存储单元及其制作方法及三维存储器,存储单元,包括:第一导电类型衬底;沟道层,沿着第一方向层叠于第一导电类型衬底之上;第二导电类型导通层,包含贯通的第一部分和第二部分,第一部分介于第一导电类型衬底与沟道层之间;第二部分形成于贯穿沟道层的通孔中;沟道通道层,沿着第一方向的负方向贯穿该沟道层和该第二导电类型导通层中的第一部分,并伸入至该第一导电类型衬底的内部;以及绝缘层,位于沟道层中,环绕该沟道通道层的外围;其中,所述第一导电类型衬底和所述第二导电类型导通层分别提供读取和擦除操作需要的载流子。不论存储单元的堆叠层数如何增加,均能实现良好的导通,不受三维存储器持续增高带来的工艺难题的影响。
IPC分类: