存储单元及其制作方法及三维存储器
摘要:
一种存储单元及其制作方法及三维存储器,存储单元,包括:第一导电类型衬底;沟道层,沿着第一方向层叠于第一导电类型衬底之上;第二导电类型导通层,包含贯通的第一部分和第二部分,第一部分介于第一导电类型衬底与沟道层之间;第二部分形成于贯穿沟道层的通孔中;沟道通道层,沿着第一方向的负方向贯穿该沟道层和该第二导电类型导通层中的第一部分,并伸入至该第一导电类型衬底的内部;以及绝缘层,位于沟道层中,环绕该沟道通道层的外围;其中,所述第一导电类型衬底和所述第二导电类型导通层分别提供读取和擦除操作需要的载流子。不论存储单元的堆叠层数如何增加,均能实现良好的导通,不受三维存储器持续增高带来的工艺难题的影响。
IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件(使用半导体器件的测量入G01;一般电阻器入H01C;磁体、电感器、变压器入H01F;一般电容器入H01G;电解型器件入H01G9/00;电池组、蓄电池入H01M;波导管、谐振器或波导型线路入H01P;线路连接器、汇流器入H01R;受激发射器件入H01S;机电谐振器入H03H;扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R;一般电光源入H05B;印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K;在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类)
H01L27/00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件(其零部件入H01L23/00,H01L29/00至H01L51/00;由多个单个固态器件组成的组装件入H01L25/00)
H01L27/02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04 ..其衬底为半导体的
H01L27/10 ...在重复结构中包括有多个独立组件的
H01L27/105 ....包含场效应组件的
H01L27/112 .....只读存储器结构的
H01L27/115 ...... · · · · ·电动编程只读存储器;其多步骤制造方法
H01L27/11563 ....... · · · · · ·具有电荷俘获栅极绝缘层的,例如,MNOS,NROM
H01L27/11568 ........ · · · · · · ·以存储器核心区为特征的(三维布置H01L27/11578)
H01L27/1157 ......... · · · · · · · ·具有单元选择晶体管的,例如,NAND
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