中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up
Invention Application
WO2021228323A1 HALTEVORRICHTUNG UND VERWENDUNG DER HALTEVORRICHTUNG 审中-公开

HALTEVORRICHTUNG UND VERWENDUNG DER HALTEVORRICHTUNG
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Haltevorrichtung zum Halten mehrerer Substrate (4) bei einer plasmaunterstützten Abscheidung einer Schicht aus der Gasphase auf den Substraten (4) aufweisend: parallel zueinander angeordnete Träger-Innenplatten (1), die ausgebildet sind, auf einander gegenüberliegenden Seiten jeweils Substrate (4) zu tragen, parallel zu den Träger-Innenplatten (1) angeordnete Träger-Außenplatten (2) mit einer den Träger-Innenplatten (1) zugewandten Innenseite und einer von den Träger-Innenplatten (1) abgewandten Außenseite, wobei jede Träger-Außenplatte (2) ausgebildet ist, auf ihrer Innenseite ein oder mehrere Substrate (4) zu tragen und auf ihrer Außenseite Substrat-frei zu sein, und Abschirmplatten (3), die jeweils beabstandet zur Außenseite der Träger-Außenplatte (2) derart angeordnet sind, dass die Abschirmplatten (3) die Träger-Außenplatten (2) in einer Aufsicht auf die Träger-Außenplatten (2) zumindest größtenteils abschatten, wobei jede Abschirmplatte (3) ausgebildet ist, Substrat-frei zu sein. Ferner betrifft die Erfindung die Verwendung der Haltevorrichtung bei einer plasmaunterstützten Abscheidung aus der Gasphase als Haltevorrichtung für Substrate (4).
Abstract(English):

The invention relates to a holding device for holding a plurality of substrates (4) for plasma-enhanced deposition of a layer from the gas phase on the substrates (4), having: inner carrier plates (1), which are arranged parallel to one another and are each designed to carry substrates (4) on mutually opposite sides; outer carrier plates (2), which are arranged parallel to the inner carrier plates (1) and have an inner side facing the inner carrier plates (1), and an outer side facing away from the inner carrier plates (1), wherein each outer carrier plate (2) is designed to carry one or more substrates (4) on its inner side and to be free of substrates on its outer side; and shielding plates (3) which are each arranged at a distance from the outer side of the outer carrier plate (2) such that, as seen in a plan view of the outer carrier plates (2), the shielding plates (3) at least predominantly shield the outer carrier plates (2), wherein each shielding plate (3) is designed to be free of substrates. The invention also relates to the use of the holding device as a holding device for substrates (4) in plasma-enhanced deposition from the gas phase.

Patent Agency Ranking
0/0