Invention Application
- Patent Title: 陰イオン交換樹脂の製造方法および電解質膜の製造方法
- Patent Title (English): PRODUCTION METHOD FOR ANION EXCHANGE RESIN AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTROLYTE FILM
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Application No.: PCT/JP2021/025060Application Date: 2021-07-02
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Publication No.: WO2022014355A1Publication Date: 2022-01-20
- Inventor: 宮武 健治 , 今野 陽介 , 横田 尚樹 , 永瀬 勝也
- Applicant: 国立大学法人山梨大学 , タカハタプレシジョン株式会社
- Applicant Address: 〒4008510 山梨県甲府市武田4丁目4-37 Yamanashi; 〒1600023 東京都新宿区西新宿3丁目9番12号 Tokyo
- Assignee: 国立大学法人山梨大学,タカハタプレシジョン株式会社
- Current Assignee: 国立大学法人山梨大学,タカハタプレシジョン株式会社
- Current Assignee Address: 〒4008510 山梨県甲府市武田4丁目4-37 Yamanashi; 〒1600023 東京都新宿区西新宿3丁目9番12号 Tokyo
- Agency: 瀬崎 幸典
- Priority: JP2020-121960 2020-07-16
- Main IPC: C08G61/12
- IPC: C08G61/12 ; C08J5/22 ; H01B13/00
Abstract:
機械的特性(強度)に優れる電解質膜を製造できる陰イオン交換樹脂の製造方法を提供する。 重合促進剤としてのビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)及び共配位子としての2,2'-ビピリジンの存在下、疎水性基形成用モノマーと親水性基形成用モノマーとを反応させて、疎水性基と親水性基とが直接結合を介して結合されている陰イオン交換樹脂を製造するにあたり、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)のモル数を、疎水性基形成用モノマーと親水性基形成用モノマーの合計モル数の1.2~1.8倍とし、2,2'-ビピリジンのモル数を、ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)のモル数の1.5~2.5倍とする。
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