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WO2023063732A1 가변형 로직 인 메모리 셀 审中-公开

가변형 로직 인 메모리 셀
Abstract:
본 발명은 트리플 게이트 피드백 메모리 소자로 구성된 가변형 로직 인 메모리 셀에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따른 가변형 로직 인 메모리 셀은 드레인 영역, 채널 영역, 소스 영역을 포함하고, 상기 채널 영역 상에서 제1 및 제2 프로그래밍 게이트 전극 및 컨트롤 게이트 전극이 형성된 게이트 영역을 포함하는 트리플 게이트 피드백 메모리 소자를 복수로 포함한다.
Abstract(English):

The present invention relates to a variable logic in memory cell composed of a triple gate feedback memory device. The variable logic in memory cell according to an embodiment of the present invention, includes a plurality of triple gate feedback memory devices. Each of the triple gate feedback memory devices includes a drain region, a channel region, and a source region, and includes a gate region in which first and second programming gate electrodes and a control gate electrode are formed on the channel region.

IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/66 .按半导体器件的类型区分的
H01L29/68 ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的（H01L29/96优先）
H01L29/76 ...单极器件
H01L29/772 ....场效应晶体管
H01L29/80 .....由PN结或其他整流结栅产生场效应的
H01L29/808 ......带有PN结栅的
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