公开(公告)号：CN1258002C

公开(公告)日：2006-05-31

申请号：CN01801329.5

申请日：2001-04-23

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 谷口和子 ,  土桥诚 ,  酒井久雄 ,  原保次

IPC: C25D21/16

CPC classification number: C25D1/04 ,  C25D3/38 ,  C25D21/06 ,  C25D21/14 ,  C25D21/18 ,  Y10T428/12431

Abstract: 公开了一种具有循环系统的电解装置，在电解槽中电解组成经调节的添加了硫脲的硫酸铜溶液，经过电解制得电沉积铜箔，从电解槽中排出的铜浓度低的硫酸铜溶液被送入铜溶解槽作为硫酸用于溶解铜，制得铜浓度高的硫酸铜溶液，向该溶液中添加添加剂制备组成经调节的硫酸铜溶液，将该溶液再一次进行电解，其特征在于还提供一循环过滤装置，它能用粒状活性炭在特定条件下对铜浓度低的硫酸铜溶液进行循环过滤30分钟或更长时间，或者还提供一具有含粉状活性炭的滤器的超滤装置。该电解装置通过除去铜电解过程中的硫脲分解产物，而得以连续制备电解铜箔。

公开(公告)号：CN1380915A

公开(公告)日：2002-11-20

申请号：CN01801329.5

申请日：2001-04-23

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 谷口和子 ,  土桥诚 ,  酒井久雄 ,  原保次

IPC: C25D21/16

CPC classification number: C25D1/04 ,  C25D3/38 ,  C25D21/06 ,  C25D21/14 ,  C25D21/18 ,  Y10T428/12431

Abstract: 公开了一种具有循环系统的电解装置,在电解槽中电解组成经调节的添加了硫脲的硫酸铜溶液,经过电解制得电沉积铜箔,从电解槽中排出的铜浓度低的硫酸铜溶液被送入铜溶解槽作为硫酸用于溶解铜,制得铜浓度高的硫酸铜溶液,向该溶液中添加添加剂制备组成经调节的硫酸铜溶液,将该溶液再一次进行电解,其特征在于还提供一循环过滤装置,它能用粒状活性炭在特定条件下对铜浓度低的硫酸铜溶液进行循环过滤30分钟或更长时间,或者还提供一具有含粉状活性炭的滤器的超滤装置。该电解装置通过除去铜电解过程中的硫脲分解产物,而得以连续制备电解铜箔。