有机发光二极管显示器设备

    公开(公告)号:CN106257682A

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201610424428.8

    申请日:2016-06-15

    Abstract: 公开一种有机发光二极管显示器设备,其包含:衬底;安置于衬底上的有机发光二极管;及包封有机发光二极管的包封层。包封层具有两个或多于两个无机层和一或多个有机层一个在另一个上交替堆叠的结构,每个无机层的厚度为40纳米到1000纳米且折射率为1.41到2.0,每个有机层的厚度为0.2微米到15微米并且折射率为1.4到1.65,且有机层由包封组成物形成。包封组成物包含:10到70重量%的(A)非硅类二(甲基)丙烯酸酯、20到70重量%的(B)硅类二(甲基)丙烯酸酯、5到40重量%的(C)单(甲基)丙烯酸酯以及1到10重量%的(D)起始剂,(B)硅类二(甲基)丙烯酸酯由式1表示。所述有机层具高等离子抗性。

    用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置

    公开(公告)号:CN107155328B

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN201580056547.6

    申请日:2015-04-14

    Abstract: 本发明提供一种用于显示器密封材料的组成物及含有其的显示器装置,所述组成物具有光聚合起始剂及光可固化单体,光可固化单体包含不具有芳族烃基的单体;以及具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体。通过固化所述组成物而获得的有机保护层具有由方程式1表示的约等于或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及约等于或小于2纳米的表面粗糙度。本发明的组成物可获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。[方程式1]等离子体蚀刻速率=(T0‑T1)/MT0为将所述组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米UV固化10秒制备的样品厚度;T1为制备的样品在特定条件下以等离子体处理1分钟后的厚度;M为等离子体处理的时间。

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