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公开(公告)号：CN116213918A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211600049.1
申请日：2016-09-08
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·昂瑞斯 , 杨川 , 言恩·克雷能特 , 马克·匹柏斯 , 休·欧文斯 , 格温多林·拜恩 , 张海滨 , 贾斯汀·雷德 , 柯瑞·纽菲尔德 , 詹姆斯·布鲁克伊塞 , 大迫·康 , 玛密特·艾尔帕 , 林智斌 , 派崔克·莱歇尔 , 提姆·纽寇斯 , 松本久 , 克里斯·莱德
Abstract: 本发明改良用于镭射处理工件的设备与技术，并且提供新功能。本发明讨论的某些实施例与以会提高精确性、总处理量、…等的方式来处理工件有关。其它实施例则关于即时Z高度量测，并且在合宜时，进行特定Z高度偏差补偿。本发明的再其它实施例则关于扫描图样、射束特征、…等的调变，以便帮助进行特征元件成形、避免非所希望的热能累积、或是提高处理总处理量。本发明亦详细说明大量的其它实施例和配置。
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公开(公告)号：CN108025396B
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN201680048544.2
申请日：2016-09-08
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·昂瑞斯 , 杨川 , 言恩·克雷能特 , 马克·匹柏斯 , 休·欧文斯 , 格温多林·拜恩 , 张海滨 , 贾斯汀·雷德 , 柯瑞·纽菲尔德 , 詹姆斯·布鲁克伊塞 , 大迫·康 , 玛密特·艾尔帕 , 林智斌 , 派崔克·莱歇尔 , 提姆·纽寇斯 , 松本久 , 克里斯·莱德
Abstract: 本发明改良用于镭射处理工件的设备与技术，并且提供新功能。本发明讨论的某些实施例与以会提高精确性、总处理量、…等的方式来处理工件有关。其它实施例则关于即时Z高度量测，并且在合宜时，进行特定Z高度偏差补偿。本发明的再其它实施例则关于扫描图样、射束特征、…等的调变，以便帮助进行特征元件成形、避免非所希望的热能累积、或是提高处理总处理量。本发明亦详细说明大量的其它实施例和配置。
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公开(公告)号：CN112091421B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202010810329.X
申请日：2016-09-08
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·昂瑞斯 , 杨川 , 言恩·克雷能特 , 马克·匹柏斯 , 休·欧文斯 , 格温多林·拜恩 , 张海滨 , 贾斯汀·雷德 , 柯瑞·纽菲尔德 , 詹姆斯·布鲁克伊塞 , 大迫·康 , 玛密特·艾尔帕 , 林智斌 , 派崔克·莱歇尔 , 提姆·纽寇斯 , 松本久 , 克里斯·莱德
IPC: B23K26/067 , B23K26/36 , B23K26/382 , B23K26/082 , B23K26/70
Abstract: 本发明改良用于镭射处理工件的设备与技术，并且提供新功能。本发明讨论的某些实施例与以会提高精确性、总处理量、…等的方式来处理工件有关。其它实施例则关于即时Z高度量测，并且在合宜时，进行特定Z高度偏差补偿。本发明的再其它实施例则关于扫描图样、射束特征、…等的调变，以便帮助进行特征元件成形、避免非所希望的热能累积、或是提高处理总处理量。本发明亦详细说明大量的其它实施例和配置。
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公开(公告)号：CN112091421A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN202010810329.X
申请日：2016-09-08
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·昂瑞斯 , 杨川 , 言恩·克雷能特 , 马克·匹柏斯 , 休·欧文斯 , 格温多林·拜恩 , 张海滨 , 贾斯汀·雷德 , 柯瑞·纽菲尔德 , 詹姆斯·布鲁克伊塞 , 大迫·康 , 玛密特·艾尔帕 , 林智斌 , 派崔克·莱歇尔 , 提姆·纽寇斯 , 松本久 , 克里斯·莱德
IPC: B23K26/067 , B23K26/36 , B23K26/382 , B23K26/082 , B23K26/70
Abstract: 本发明改良用于镭射处理工件的设备与技术，并且提供新功能。本发明讨论的某些实施例与以会提高精确性、总处理量、…等的方式来处理工件有关。其它实施例则关于即时Z高度量测，并且在合宜时，进行特定Z高度偏差补偿。本发明的再其它实施例则关于扫描图样、射束特征、…等的调变，以便帮助进行特征元件成形、避免非所希望的热能累积、或是提高处理总处理量。本发明亦详细说明大量的其它实施例和配置。
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公开(公告)号：CN108025396A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680048544.2
申请日：2016-09-08
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor： 马克·昂瑞斯 , 杨川 , 言恩·克雷能特 , 马克·匹柏斯 , 休·欧文斯 , 格温多林·拜恩 , 张海滨 , 贾斯汀·雷德 , 柯瑞·纽菲尔德 , 詹姆斯·布鲁克伊塞 , 大迫·康 , 玛密特·艾尔帕 , 林智斌 , 派崔克·莱歇尔 , 提姆·纽寇斯 , 松本久 , 克里斯·莱德
Abstract: 本发明改良用于镭射处理工件的设备与技术，并且提供新功能。本发明讨论的某些实施例与以会提高精确性、总处理量、…等的方式来处理工件有关。其它实施例则关于即时Z高度量测，并且在合宜时，进行特定Z高度偏差补偿。本发明的再其它实施例则关于扫描图样、射束特征、…等的调变，以便帮助进行特征元件成形、避免非所希望的热能累积、或是提高处理总处理量。本发明亦详细说明大量的其它实施例和配置。
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