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公开(公告)号：CN107450164B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201710405919.2
申请日：2017-06-01
申请人： 佳能株式会社
摘要： 公开了光学系统和包括光学系统的图像拾取装置。光学系统包括具有正折光力的第一透镜单元；在聚焦期间移动并具有正折光力或负折光力的第二透镜单元；以及具有正折光力或负折光力的第三透镜单元。第一透镜单元、第二透镜单元和第三透镜单元顺序地从物侧到像侧设置。在聚焦期间，相邻透镜单元之间的间隔改变。在光学系统中，整个光学系统的焦距f、沿着光轴从第一透镜单元的最靠近物侧的透镜表面到像面的距离LD、第一透镜单元中包括的正透镜的材料以及第一透镜单元中包括的正透镜的布置被适当地设定。
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公开(公告)号：CN104007608B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201410058925.1
申请日：2014-02-21
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70466
摘要： 一种用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置。通过使用信息处理装置来确定多个掩模的图案的方法，包括：获取关于包含多个图案元素的图案的数据；将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指数的评价值。在所述方法中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。
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公开(公告)号：CN107450165A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201710405960.X
申请日：2017-06-01
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G02B13/02
摘要： 提供了光学系统和包括光学系统的图像拾取装置。一种光学系统，包括具有正折光力的第一透镜单元、在聚焦期间移动并且具有正折光力或负折光力的第二透镜单元，以及具有正折光力或负折光力的第三透镜单元。第一透镜单元、第二透镜单元和第三透镜单元按从物侧到像侧的次序部署。在聚焦期间，相邻透镜单元之间的间隔改变。在光学系统中，整个光学系统的焦距f、从第一透镜单元的最靠近物侧的透镜表面到像平面沿着光轴的距离LD以及被包括在第一透镜单元中的正透镜和负透镜的焦距被适当地设置。
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公开(公告)号：CN107450164A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201710405919.2
申请日：2017-06-01
申请人： 佳能株式会社
摘要： 公开了光学系统和包括光学系统的图像拾取装置。光学系统包括具有正折光力的第一透镜单元；在聚焦期间移动并具有正折光力或负折光力的第二透镜单元；以及具有正折光力或负折光力的第三透镜单元。第一透镜单元、第二透镜单元和第三透镜单元顺序地从物侧到像侧设置。在聚焦期间，相邻透镜单元之间的间隔改变。在光学系统中，整个光学系统的焦距f、沿着光轴从第一透镜单元的最靠近物侧的透镜表面到像面的距离LD、第一透镜单元中包括的正透镜的材料以及第一透镜单元中包括的正透镜的布置被适当地设定。
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公开(公告)号：CN102681354A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210061014.5
申请日：2012-03-09
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70125 , G03F7/70441 , G03F7/705
摘要： 本发明涉及决定方法和计算机。本发明提供一种决定曝光装置中的曝光条件的决定方法，该方法包括：从要被用来评价与曝光条件对应地在投影光学系统的像面上形成的图像的多个评价项目中选择关注评价项目的步骤；选择与关注评价项目不同并且在改变包含于曝光条件中的参数值时沿与关注评价项目的值改变的方向相同的方向改变值的评价项目作为辅助评价项目的步骤；以及设定包含关注评价项目和辅助评价项目作为值的评价函数的步骤。
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公开(公告)号：CN112859312B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202011328724.0
申请日：2020-11-24
申请人： 佳能株式会社
发明人： 行田裕一
IPC分类号： G02B15/177 , G02B15/14
摘要： 本发明涉及变焦镜头和包括变焦镜头的图像捕获装置。变焦镜头B0按照从物侧到像侧的次序包括具有负折光力的第一透镜单元B1、具有正折光力的第二透镜单元B2和具有负折光力的第三透镜单元B3。第一透镜单元B1在变焦期间移动。第一透镜单元B1包括至少一个正透镜以及最靠近物侧部署的负透镜G1。第二透镜单元B2中包括的各透镜都具有正折光力。第三透镜单元B3中包括的透镜的数量是两个或更少。第三透镜单元B3在从无穷远到近距离的聚焦期间朝着像侧移动。
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公开(公告)号：CN112859312A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011328724.0
申请日：2020-11-24
申请人： 佳能株式会社
发明人： 行田裕一
IPC分类号： G02B15/177 , G02B15/14
摘要： 本发明涉及变焦镜头和包括变焦镜头的图像捕获装置。变焦镜头B0按照从物侧到像侧的次序包括具有负折光力的第一透镜单元B1、具有正折光力的第二透镜单元B2和具有负折光力的第三透镜单元B3。第一透镜单元B1在变焦期间移动。第一透镜单元B1包括至少一个正透镜以及最靠近物侧部署的负透镜G1。第二透镜单元B2中包括的各透镜都具有正折光力。第三透镜单元B3中包括的透镜的数量是两个或更少。第三透镜单元B3在从无穷远到近距离的聚焦期间朝着像侧移动。
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公开(公告)号：CN104641290A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201380045839.0
申请日：2013-09-03
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F1/70 , H01L21/027
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/70
摘要： 一种掩模数据产生方法，用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后通过使用另一掩模将曝光光照射到基板的多次曝光中使用的多个掩模的数据。该方法包含以下步骤：获得包含多个图案元素的图案的数据，确定图案元素的配置限制条件的规划，分析图案元素之间的距离，确定距离限制条件的规划，以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量并由此划分图案。
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公开(公告)号：CN103365072B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201310113919.7
申请日：2013-04-03
申请人： 佳能株式会社
发明人： 行田裕一
CPC分类号： G03F1/70
摘要： 公开了一种用于生成掩模图案的方法。一种用于经由计算机生成要用于曝光设备的掩模图案的方法，该曝光设备通过照射掩模来在衬底上对掩模图案的图像进行曝光，该方法包括：获得要被形成在衬底上的主图案的数据以及主图案要被转印到的层的下层的图案的数据，使用所述下层的图案的数据，设置相对于主图案的辅助图案的生成条件，使用该生成条件来确定辅助图案，以及生成包括主图案和所确定的辅助图案的掩模图案的数据。
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