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公开(公告)号：CN111381455A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911333037.5
申请日：2019-12-23
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法，提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统包括：生成部，使来自光源的光衍射，将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面；光学积分器，配置于生成部与被照明面之间的光路上；及光透射部件，配置于生成部与光学积分器之间的光路上，多个种类的光强度分布包括光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布和第2光强度分布，光透射部件包括在第1光强度分布生成时和第2光强度分布生成时光共同地透射的第1区域和第1区域以外的第2区域，第1区域包括光的发散程度比第2区域高的发散部。
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公开(公告)号：CN105278235B
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201510434239.4
申请日：2015-07-22
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明提供一种图案生成方法以及信息处理装置。所述图案生成方法包括：限定步骤，在各单元中限定主图案的占有区；布置步骤，相邻布置第一单元和具有在所述主图案的占有区外部的辅助图案的第二单元，使得所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案存在于所述第一单元的主图案的占有区中；以及生成步骤，通过在相邻布置的所述第一单元和所述第二单元中的、所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案的图案元素与所述第一单元中的所述主图案接近或交叠的部分中，去除所述辅助图案的图案元素，来生成所述掩模的图案。
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公开(公告)号：CN102455594A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110310483.1
申请日：2011-10-14
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70558 , G03F7/70608
摘要： 本申请涉及抗蚀剂图案计算方法。一种使用计算机计算形成在衬底上的抗蚀剂图案的方法包括：第一步，基于中间掩模图案和曝光条件来计算形成在抗蚀剂上的光学图像的光强度分布；第二步，使用第一扩散长度对计算的光强度分布进行卷积；第三步，从计算的光强度分布或者卷积的光强度分布计算代表性光强度；第四步，通过将校正函数与卷积的光强度分布相加来对卷积的光强度分布进行校正，所述校正函数包括由下式给出的第一函数：其中，J是代表性光强度的分布；和第五步，基于校正的光强度分布和预先设置的限幅水平来计算抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN111381455B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN201911333037.5
申请日：2019-12-23
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法，提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统包括：生成部，使来自光源的光衍射，将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面；光学积分器，配置于生成部与被照明面之间的光路上；及光透射部件，配置于生成部与光学积分器之间的光路上，多个种类的光强度分布包括光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布和第2光强度分布，光透射部件包括在第1光强度分布生成时和第2光强度分布生成时光共同地透射的第1区域和第1区域以外的第2区域，第1区域包括光的发散程度比第2区域高的发散部。
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公开(公告)号：CN114286966A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202080060758.8
申请日：2020-08-05
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 在进行基板的扫描曝光的曝光装置中，利用来自光源(1)的光对原版(24)的被照明面进行照明的照明光学系统具有：衍射光学元件(6)，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源(1)的光束的光强度分布；第1遮光部(18)，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及第2遮光部(20)，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置。所述衍射光学元件(6)具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部(18)和所述第2遮光部(20)在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。
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公开(公告)号：CN104007608B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201410058925.1
申请日：2014-02-21
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70466
摘要： 一种用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置。通过使用信息处理装置来确定多个掩模的图案的方法，包括：获取关于包含多个图案元素的图案的数据；将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指数的评价值。在所述方法中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。
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公开(公告)号：CN114286966B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202080060758.8
申请日：2020-08-05
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 在进行基板的扫描曝光的曝光装置中，利用来自光源(1)的光对原版(24)的被照明面进行照明的照明光学系统具有：衍射光学元件(6)，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源(1)的光束的光强度分布；第1遮光部(18)，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及第2遮光部(20)，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置。所述衍射光学元件(6)具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部(18)和所述第2遮光部(20)在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。
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公开(公告)号：CN105278235A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510434239.4
申请日：2015-07-22
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明提供一种图案生成方法以及信息处理装置。所述图案生成方法包括：限定步骤，在各单元中限定主图案的占有区；布置步骤，相邻布置第一单元和具有在所述主图案的占有区外部的辅助图案的第二单元，使得所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案存在于所述第一单元的主图案的占有区中；以及生成步骤，通过在相邻布置的所述第一单元和所述第二单元中的、所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案的图案元素与所述第一单元中的所述主图案接近或交叠的部分中，去除所述辅助图案的图案元素，来生成所述掩模的图案。
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公开(公告)号：CN104007608A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201410058925.1
申请日：2014-02-21
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70466
摘要： 一种用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置。通过使用信息处理装置来确定多个掩模的图案的方法，包括：获取关于包含多个图案元素的图案的数据；将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指数的评价值。在所述方法中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。
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公开(公告)号：CN104678696B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201410709424.5
申请日：2014-11-28
申请人： 佳能株式会社
发明人： 中山谅
摘要： 本发明涉及图案生成方法、信息处理装置以及掩模制造方法。一种新型的用于生成包括单元图案的图案的方法，所述单元图案包括在其中布置的辅助图案。本发明提供用于生成在通过布置从多种单元中选择的单元来生成掩模图案时所使用的单元的图案的生成方法。该生成方法包括通过获得有关包括孤立的矩形图案元素的单元的数据并且根据所述数据生成辅助矩形图案元素的辨析的辅助图案来生成包括该矩形图案元素和辅助图案的图案作为单元图案。
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