一种基于多层对准技术的多功能纳米压印光刻设备

    公开(公告)号:CN118131562A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202410194443.2

    申请日:2024-02-22

    Abstract: 本发明公开了一种基于多层对准技术的多功能纳米压印光刻设备,在基座上安装转动工作台与下压印腔体,X‑Y轴移动工作台安装在下压印腔体内部;支架的下端与基座相固定,行星齿轮减速器固定在支座上,支座固定在横梁上,联轴器将行星减速器的输出轴与滚珠丝杠的一端相连;导轨的上端固定在横梁上,直线轴承的内孔与导轨外径配合;固定板与支撑箱相固定,支撑箱与上压印腔体相固定,X轴移动工作台上安装电子显微镜组和紫外光源,X轴移动工作台在支撑箱内部固定在上压印腔体上,上压印腔体内安装玻璃板和模板夹具。本发明可实现高效、高精度的多层纳米结构对准压印,能进行紫外压印和热压印两种压印模式,也可实现对复杂曲面的压印工艺。

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