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公开(公告)号:CN1772433A
公开(公告)日:2006-05-17
申请号:CN200510114309.4
申请日:2005-10-20
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B24B7/162 , Y10S269/90 , Y10S451/914
Abstract: 本发明提供一种研磨加工用夹具组及多个被研磨体的研磨方法,其不会损伤被研磨体、不会改变开始到结束期间的多个被研磨体的配置图案。研磨加工用夹具组用在将多个被研磨体配置在研磨夹具上,在被研磨体的研磨加工结束之后直到使被研磨体从研磨夹具脱离的一系列工序中,且由多个夹具单元组成,包括:配置用小型托架;分割托架,其可在收容配置用小型托架的状态下将被研磨体从起始托架上移送到配置用小型托架上;分割板,其可将载放在配置用小型托架上的被研磨体以转印状态配置到研磨夹具的表面上;脱离用小型托架,其可在被研磨体的研磨加工结束后,将通过规定的剥离处理从研磨夹具的表面上脱离的被研磨体以转印状态和分割成局部图案的状态移送。
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公开(公告)号:CN101427393A
公开(公告)日:2009-05-06
申请号:CN200780014505.1
申请日:2007-04-23
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: H01L41/09 , H01L41/08 , H01L41/187 , H01L41/193 , H02N2/00
CPC classification number: H01L41/0475 , G01N29/022 , G01N29/245 , G01P15/0922 , H01L41/0973 , H01L41/1132
Abstract: 本发明的压电/电致伸缩膜型元件(10)具备基板(11)、下部电极(12)、压电/电致伸缩膜(15)以及上部电极(16)。基板(11)具备薄壁隔膜部(11a)和形成于其周围的厚壁部(11b)。下部电极(12)以横跨薄壁隔膜部(11a)和厚壁部(11b)的方式形成于基板(11)之上。压电/电致伸缩膜(15)形成于下部电极(12)之上。上部电极(16)以与薄壁隔膜部(11a)相对的方式形成于压电/电致伸缩膜(15)之上。该上部电极(16)具备上部电极主体部(16a)和连接部(16b)。上部电极主体部(16a)形成为与薄壁隔膜部(11a)的平面形状大致相似的平面形状。
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公开(公告)号:CN101427393B
公开(公告)日:2010-09-01
申请号:CN200780014505.1
申请日:2007-04-23
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: H01L41/09 , H01L41/08 , H01L41/187 , H01L41/193 , H02N2/00
CPC classification number: H01L41/0475 , G01N29/022 , G01N29/245 , G01P15/0922 , H01L41/0973 , H01L41/1132
Abstract: 本发明的压电/电致伸缩膜型元件(10)具备基板(11)、下部电极(12)、压电/电致伸缩膜(15)以及上部电极(16)。基板(11)具备薄壁隔膜部(11a)和形成于其周围的厚壁部(11b)。下部电极(12)以横跨薄壁隔膜部(11a)和厚壁部(11b)的方式形成于基板(11)之上。压电/电致伸缩膜(15)形成于下部电极(12)之上。上部电极(16)以与薄壁隔膜部(11a)相对的方式形成于压电/电致伸缩膜(15)之上。该上部电极(16)具备上部电极主体部(16a)和连接部(16b)。上部电极主体部(16a)形成为与薄壁隔膜部(11a)的平面形状大致相似的平面形状。
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公开(公告)号:CN100410011C
公开(公告)日:2008-08-13
申请号:CN200510114309.4
申请日:2005-10-20
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B24B7/162 , Y10S269/90 , Y10S451/914
Abstract: 本发明提供一种研磨加工用夹具组及多个被研磨体的研磨方法,其不会损伤被研磨体、不会改变开始到结束期间的多个被研磨体的配置图案。研磨加工用夹具组用在将多个被研磨体配置在研磨夹具上,在被研磨体的研磨加工结束之后直到使被研磨体从研磨夹具脱离的一系列工序中,且由多个夹具单元组成,包括:配置用小型托架;分割托架,其可在收容配置用小型托架的状态下将被研磨体从起始托架上移送到配置用小型托架上;分割板,其可将载放在配置用小型托架上的被研磨体以转印状态配置到研磨夹具的表面上;脱离用小型托架,其可在被研磨体的研磨加工结束后,将通过规定的剥离处理从研磨夹具的表面上脱离的被研磨体以转印状态和分割成局部图案的状态移送。
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