公开(公告)号：CN105122096A

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201480020820.5

申请日：2014-04-16

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 木村晃纯 ,  小畑裕昭

IPC: G02B5/28 ,  B05D1/34 ,  B32B27/30

CPC classification number: G02B5/085 ,  B29D11/00596 ,  G02B1/04 ,  G02B5/0841 ,  C08L29/04

Abstract: 本发明提供可以抑制被称为洇色的缺陷的形成的光学反射膜、或者抑制卷曲的产生、耐弯曲性优异的光学反射膜、或高湿度条件暴露后的层间密合性及外观良好的光学反射膜。为在基材上含有至少1个层叠了低折射率层和高折射率层的单元的光学反射膜，其中，低折射率层及高折射率层的至少一者含有1～10摩尔％的亚乙基改性度的亚乙基改性聚乙烯醇及无机氧化物粒子，或者高折射率层含有皂化度为95.0～99.9摩尔％的亚乙基改性聚乙烯醇及作为无机氧化物粒子的氧化钛粒子，该高折射率层中的该无机氧化物粒子的含有率为40～60体积％，或者，低折射率层或高折射率层的至少一者含有2种以上的亚烷基改性聚乙烯醇及无机氧化物粒子。

公开(公告)号：CN104321149B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201380025552.1

申请日：2013-05-16

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 木村晃纯

IPC: B05D1/34

CPC classification number: B05D1/36 ,  B05D1/00 ,  B05D1/26 ,  B05D1/265 ,  B05D1/30 ,  B05D1/34 ,  B05D7/50 ,  G02B1/11 ,  G02B5/282

Abstract: 本发明提供一种在快的涂布速度下，膜厚的均匀性提高、干涉不均减少的多层层叠膜的制造方法。本发明是一种多层层叠膜的制造方法，包括在基材上以涂布速度10m/min以上的速度将多种涂布液进行同时复层涂布的工序，将上述涂布液在温度45℃、剪切速度10sec?1时的粘度设为A[mPa·s]，将上述涂布液在温度45℃、剪切速度1000sec?1时的粘度设为B[mPa·s]，以及将上述涂布液在温度45℃、剪切速度10000sec?1时的粘度设为C[mPa·s]时，上述多种涂布液中的至少一种涂布液的A/B为1.5～9的范围且B/C为0.6～1.4的范围。

公开(公告)号：CN108369303B

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN201680074657.X

申请日：2016-12-15

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 木村晃纯 ,  斋藤洋一

IPC: G02B5/28 ,  G02B5/26

Abstract: 本发明的目的在于提供使雾度减小、开裂的产生难以发生的光学反射膜。提供光学反射膜。涉及光学反射膜，是在基材上含有至少一个将低折射率层和高折射率层层叠了的单元的光学反射膜，其特征在于，上述高折射率层含有氧化锆粒子，上述低折射率层含有氧化硅粒子和2种以上的阳离子聚合物。

公开(公告)号：CN108369303A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680074657.X

申请日：2016-12-15

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 木村晃纯 ,  斋藤洋一

IPC: G02B5/28 ,  G02B5/26

Abstract: 本发明的目的在于提供使雾度减小、开裂的产生难以发生的光学反射膜。提供光学反射膜。涉及光学反射膜，是在基材上含有至少一个将低折射率层和高折射率层层叠了的单元的光学反射膜，其特征在于，上述高折射率层含有氧化锆粒子，上述低折射率层含有氧化硅粒子和2种以上的阳离子聚合物。

公开(公告)号：CN104321149A

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：CN201380025552.1

申请日：2013-05-16

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 木村晃纯

IPC: B05D1/34

CPC classification number: B05D1/36 ,  B05D1/00 ,  B05D1/26 ,  B05D1/265 ,  B05D1/30 ,  B05D1/34 ,  B05D7/50 ,  G02B1/11 ,  G02B5/282

Abstract: 本发明提供一种在快的涂布速度下，膜厚的均匀性提高、干涉不均减少的多层层叠膜的制造方法。本发明是一种多层层叠膜的制造方法，包括在基材上以涂布速度10m/min以上的速度将多种涂布液进行同时复层涂布的工序，将上述涂布液在温度45℃、剪切速度10sec-1时的粘度设为A[mPa·s]，将上述涂布液在温度45℃、剪切速度1000sec-1时的粘度设为B[mPa·s]，以及将上述涂布液在温度45℃、剪切速度10000sec-1时的粘度设为C[mPa·s]时，上述多种涂布液中的至少一种涂布液的A/B为1.5～9的范围且B/C为0.6～1.4的范围。