多层层叠膜的制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104321149A

    公开(公告)日:2015-01-28

    申请号:CN201380025552.1

    申请日:2013-05-16

    发明人: 木村晃纯

    IPC分类号: B05D1/34

    摘要: 本发明提供一种在快的涂布速度下,膜厚的均匀性提高、干涉不均减少的多层层叠膜的制造方法。本发明是一种多层层叠膜的制造方法,包括在基材上以涂布速度10m/min以上的速度将多种涂布液进行同时复层涂布的工序,将上述涂布液在温度45℃、剪切速度10sec-1时的粘度设为A[mPa·s],将上述涂布液在温度45℃、剪切速度1000sec-1时的粘度设为B[mPa·s],以及将上述涂布液在温度45℃、剪切速度10000sec-1时的粘度设为C[mPa·s]时,上述多种涂布液中的至少一种涂布液的A/B为1.5~9的范围且B/C为0.6~1.4的范围。

    等离子膜沉积方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102268645B

    公开(公告)日:2014-04-09

    申请号:CN201110157541.1

    申请日:2011-05-31

    发明人: 万谷俊一

    IPC分类号: C23C14/32

    CPC分类号: B05D3/142 B05D1/34 B05D1/36

    摘要: 本发明提供一种等离子膜沉积方法。等离子喷嘴(14)供应等离子化放电气体,被置于等离子喷嘴(14)与基底构件(10)之间的流量调节器(12)中的第一供应部分(22)供应第一液相原料。与第一供应部分(22)分开的第二供应部分(20)供应第二液相原料。通过等离子化放电气体被活化且在处于液相的同时沉积在基底构件(10)上的第一液相原料与通过等离子化放电气体被活化的第二液相原料相互作用,并且在基底构件(10)上凝固成膜。