-
公开(公告)号：CN118486029A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202410947240.6
申请日：2024-07-16
IPC分类号： G06V20/70 , G06V10/764 , G06V10/766 , G06V10/80 , G06V10/82 , G06N3/0464 , G06N3/045 , G06N3/09
摘要： 本发明公开了一种基于改进DETR模型的核医学影像设备目标检测方法，包括以下步骤：一、采集含有核医学影像设备的图像，对图像中的核医学影像设备进行标注，构建数据集，数据集包括图像和标注信息，将数据集划分为训练集和验证集；二、构建NMED‑DETR模型，利用步骤一得到的训练集训练NMED‑DETR模型；三、将待检测的核医学影像设备图像输入至步骤二得到的训练好的NMED‑DETR模型中，得到核医学影像设备的检测结果。本发明的基于改进DETR模型的核医学影像设备目标检测方法采用NMED‑DETR模型，不仅提高了检测精度，还减少了训练时间，在识别核医学影像设备的大目标时，较传统DETR模型有显著提升。
-
公开(公告)号：CN117826403A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311681296.3
申请日：2023-12-08
摘要： 本发明公开了一种基于局部焦距追迹计算的广角镜头设计方法，该方法提出局部焦距的概念，来表征各视场处极小视场角增量光线对应的像高增量，将焦距的内涵由零视场拓展至全视场，在广角镜头的设计中，引入局部焦距进行追迹计算优化调控，实现光学系统性能参数的设计计算和实验测量的算测融合，具体包括以下步骤：依据广角镜头的设计目标，选择成像探测器；分析物像映射关系，计算理想的局部焦距分布；进行等间隔视场离散采样；按照小像高法追迹计算各采样视场的局部焦距值；焦距与投影模型同步优化控制，实现满足各类型复杂物像映射关系的广角镜头的设计。本发明实现了系统焦距和物像映射的同步控制，提高了广角镜头的成像效果。
-
公开(公告)号：CN118068564B
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410482158.0
申请日：2024-04-22
摘要： 本发明公开了一种双视场双分辨率融合型广角光学系统及设计方法和装置，包括成像接收器、广角镜头，所述成像接收器用于接收广角镜头光线并成像，首先确定设计目标，划分视场区域；根据视场区域建立光学系统随视场变化的局部焦距分布函数和局部F数分布函数；追迹计算采样视场的局部焦距和局部F数；优化控制局部焦距和局部F数，一并控制渐变视场区域优化控制系统像差；优化迭代，确定广角镜头的局部焦距与局部F数，直至满足双视场双分辨率广角光学系统的设计目标。本发明不仅具有成像调控灵活、直接和精准，而且能够适应不同场景的观测需求。
-
公开(公告)号：CN118068564A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410482158.0
申请日：2024-04-22
摘要： 本发明公开了一种双视场双分辨率融合型广角光学系统及设计方法和装置，包括成像接收器、广角镜头，所述成像接收器用于接收广角镜头光线并成像，首先确定设计目标，划分视场区域；根据视场区域建立光学系统随视场变化的局部焦距分布函数和局部F数分布函数；追迹计算采样视场的局部焦距和局部F数；优化控制局部焦距和局部F数，一并控制渐变视场区域优化控制系统像差；优化迭代，确定广角镜头的局部焦距与局部F数，直至满足双视场双分辨率广角光学系统的设计目标。本发明不仅具有成像调控灵活、直接和精准，而且能够适应不同场景的观测需求。
-
公开(公告)号：CN221037183U
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202420441652.8
申请日：2024-03-07
摘要： 本实用新型属于计量检测技术领域，具体地说是一种高深宽比微孔槽标准器，包括封装罩、标准样板和基底板，标准样板平置于基底板的中央并与其固定相连；标准样板上刻蚀用于表征和溯源的具有高深宽比特征的微孔槽结构和用于快速循迹的定位结构；封装罩采用可拆取结构，能够有效防止标准样板污染；可根据高深宽比三维结构无损测量系统的分辨能力及定位方式，通过参考图案和引导图案的设置，达到各类型测量仪器快速、准确循迹至微孔槽有效测量区域的效果，满足对技术方案各异、工作原理不同的高深宽比微孔槽结构无损测量仪器设备的校准需求，为半导体高深宽比微孔槽无损测量仪器设备的现场校准提供量传实物的载体。
-
公开(公告)号：CN221037285U
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202420516650.0
申请日：2024-03-18
IPC分类号： G01B9/02055
摘要： 本实用新型属于晶圆面型干涉检测的技术领域，具体地说是一种用于双面抛光晶圆测量干涉仪的映射校准装置，包括刻蚀有映射校准关系的校准槽的透明亚克力板、晶圆测量干涉仪，通过两台晶圆测量干涉仪分别对校准槽结构进行成像，获得每台干涉仪各自的成像畸变；通过分析两台晶圆测量干涉仪之间的空间位置关系和各自的成像畸变，获得两台晶圆测量干涉仪测得的面形数据之间的映射关系，实现映射校准。本实用新型不仅能够实现对双面抛光晶圆测量干涉系统的检验与校准，而且消除了映射误差对晶圆形貌参数的影响，同时能够高精度的一次性获得晶圆的全表面形貌和相关参数信息。
-
-
-
-
-
搜索结果
6 条记录 (耗时 0.054 秒)
