公开(公告)号：CN100559217C

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200610079943.3

申请日：2006-04-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·J·W·范赫尔彭 ,  L·P·巴克 ,  V·Y·巴尼纳 ,  D·J·W·克伦德

IPC: G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B1/10 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/283 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层，其比如可用于EUV光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层，但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此，具有下列配置的多层反射镜是可能的：多层反射镜/第一光谱纯度增强层；多层反射镜/中间层/第一光谱纯度增强层；以及多层反射镜/第二光谱纯度增强层/中间层/第一光谱纯度增强层。可提高正入射辐射的光谱纯度，以使DUV辐射的减少相对EUV辐射更强。

公开(公告)号：CN1854771A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610079943.3

申请日：2006-04-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·J·W·范赫尔彭 ,  L·P·巴克 ,  V·Y·巴尼纳 ,  D·J·W·克伦德

IPC: G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B1/10 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/283 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层，其比如可用于EUV光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层，但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此，具有下列配置的多层反射镜是可能的：多层反射镜/第一光谱纯度增强层；多层反射镜/中间层/第一光谱纯度增强层；以及多层反射镜/第二光谱纯度增强层/中间层/第一光谱纯度增强层。可提高正入射辐射的光谱纯度，以使DUV辐射的减少相对EUV辐射更强。