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公开(公告)号：CN104335096B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201380026836.2
申请日：2013-05-07
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0284 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B5/1861 , G02B17/002 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70575
摘要： 一种投射曝光设备(1)中照明物场(5)的照明光学单元(4)，包括：具有一结构的第一分面反射镜(13)，该结构在至少一个方向上具有至少0.2mm‑1的空间频率；以及第二分面反射镜(14)，其包括多个分面(14a)，其中所述分面(14a)分别设有抑制所述第一分面反射镜(13)的结构的空间频率的装置。
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公开(公告)号：CN102736444B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201210107106.2
申请日：2012-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·C·德弗里斯 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , F·J·J·杰森 , N·A·J·M·范阿尔勒
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70158 , G03F7/70191
摘要： 本发明公开了一种用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法。在一种极紫外光刻设备中，照射系统包括琢面场反射镜和琢面光瞳反射镜。反射镜内部的场琢面反射镜将极紫外辐射聚焦到特定的相关光瞳琢面反射镜，由此将其引导至目标区域。每个场琢面反射镜被修改为散射不期望的深紫外辐射进入一方向范围内。深紫外辐射的大部分落到光瞳反射镜内的相邻光瞳琢面反射镜上，使得到达目标的深紫外辐射的量与期望的极紫外辐射相比被抑制。因为反射镜之间的距离远大于单个光瞳琢面反射镜的宽度，所以可以仅使用窄散射角来实现对深紫外辐射的良好的抑制。可以将散射层内的极紫外辐射的吸收最小化。
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公开(公告)号：CN102119366B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN200980131416.4
申请日：2009-07-13
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/2008 , G03F7/70575 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70983 , G21K1/00
摘要： 一种光刻设备，包括：源，配置成使用等离子体生成包括想要的辐射和不想要的辐射的辐射束；照射系统，配置成在光刻设备操作期间调节辐射束并且接收氢气；和支撑结构，构造成保持图案形成装置。所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。衬底台构造成保持衬底，以及投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。光刻设备配置成使得进入照射系统的辐射束包括由等离子体生成的至少50％的不想要的辐射，并且包括与氢气反应以生成氢自由基的辐射的波长。
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公开(公告)号：CN103875311A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201280047922.7
申请日：2012-09-28
申请人： 派因布鲁克成像技术有限公司
IPC分类号： H05B37/02
CPC分类号： H05B37/04 , G03F7/70575 , H05B37/03 , H05B37/032
摘要： 提供了一种照明系统以及用于控制该照明系统的方法。在一个实施例中，该方法包括：提供多个照明源；在一段时间内，监测多个照明源的光输出功率；以及控制多个照明源以维持预定水平的光输出功率。该方法还包括：补偿多个照明源中的一个或多个照明源的衰减以维持预定水平的光输出功率；基于多个照明源的参数，预测照明系统的使用寿命；以及根据质量控制计划表，执行多个照明源的定期维护。
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公开(公告)号：CN101960338B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN200980106463.3
申请日：2009-02-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： W·A·索尔 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·M·J·W·范赫彭 , A·M·亚库林
CPC分类号： G02B5/208 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G02B5/26 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
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公开(公告)号：CN102736444A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210107106.2
申请日：2012-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·C·德弗里斯 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , F·J·J·杰森 , N·A·J·M·范阿尔勒
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70158 , G03F7/70191
摘要： 本发明公开了一种用于调节辐射束的光学设备、光刻设备和器件制造方法。在一种极紫外光刻设备中，照射系统包括琢面场反射镜和琢面光瞳反射镜。反射镜内部的场琢面反射镜将极紫外辐射聚焦到特定的相关光瞳琢面反射镜，由此将其引导至目标区域。每个场琢面反射镜被修改为散射不期望的深紫外辐射进入一方向范围内。深紫外辐射的大部分落到光瞳反射镜内的相邻光瞳琢面反射镜上，使得到达目标的深紫外辐射的量与期望的极紫外辐射相比被抑制。因为反射镜之间的距离远大于单个光瞳琢面反射镜的宽度，所以可以仅使用窄散射角来实现对深紫外辐射的良好的抑制。可以将散射层内的极紫外辐射的吸收最小化。
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公开(公告)号：CN102612668A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201080051848.7
申请日：2010-10-11
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70575 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： 一种多层反射镜(100)配置用于反射极紫外(EUV)辐射、同时吸收第二辐射，所述第二辐射的波长基本上长于EUV辐射的波长。所述反射镜包括：叠置在基底(104)上的多个层对(110、112)。每个层对包括第一层(112)和第二层(110)，所述第一层包括第一材料，所述第二层包括第二材料。第一层(112)被改变，使得相比于具有相同厚度的相同金属的单层，减少了所述第一层对反射所述第二辐射的贡献。所述改变可以包括在金属层中或者金属层周围掺杂第三材料，以通过化学键合或者电子俘获来减小其导电性，和/或以绝缘层将金属层分成多个子层。在叠层中的层的数量大于已知的多层反射镜，并且可以被调整以获得最小的IR反射。
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公开(公告)号：CN100526992C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200680001363.0
申请日：2006-06-30
申请人： 株式会社尼康
发明人： 新井诚义
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70458 , G03F7/7005 , G03F7/70525 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , G03F7/70625 , H01S3/10069 , H01S3/1055 , H01S3/1394 , H01S3/225 , H01S2301/08
摘要： 曝光装置(10)包括：射出激光的激光装置(16)；存储有第1信息的存储器(51)，该第1信息表示形成在晶圆上的图案的线宽误差与从激光装置射出的激光的光谱特性之间的关系；以及主控制装置(50)，根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息，通过激光控制装置(16e)来控制激光的光谱带宽。主控制装置(50)根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息来执行例如抑制线宽误差之类的激光的光谱带宽控制。
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公开(公告)号：CN101080807A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200680001363.0
申请日：2006-06-30
申请人： 株式会社尼康
发明人： 新井诚义
IPC分类号： H01L21/027 , H01S3/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70458 , G03F7/7005 , G03F7/70525 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , G03F7/70625 , H01S3/10069 , H01S3/1055 , H01S3/1394 , H01S3/225 , H01S2301/08
摘要： 曝光装置(10)包括：射出激光的激光装置(16)；存储有第1信息的存储器(51)，该第1信息表示形成在晶圆上的图案的线宽误差与从激光装置射出的激光的光谱特性之间的关系；以及主控制装置(50)，根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息，通过激光控制装置(16e)来控制激光的光谱带宽。主控制装置(50)根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息来执行例如抑制线宽误差之类的激光的光谱带宽控制。
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公开(公告)号：CN101038443A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710085566.9
申请日：2007-03-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·范德科霍夫 , J·H·W·乔科布斯 , T·尤特迪克 , N·A·拉勒曼特
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70258 , G03F7/70341 , G03F7/705 , G03F7/70575 , G03F7/706
摘要： 公开了一种光刻装置，其包括测量系统或预测系统，分别用于测量和/或预测与浸液的温度波动相关的影响；还包括控制系统，用于分别根据由测量系统和/或预测系统获得的测量结果和/或预测结果来控制与浸液相关的所述影响或其它影响。还公开了一种相关的控制系统和器件制造方法。
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