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公开(公告)号:CN110277343B
公开(公告)日:2023-06-30
申请号:CN201910149763.5
申请日:2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够提高强度。提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述穿通孔,其特征为,所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域,所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触,所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
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公开(公告)号:CN110277343A
公开(公告)日:2019-09-24
申请号:CN201910149763.5
申请日:2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够提高强度。提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述穿通孔,其特征为,所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域,所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触,所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
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