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公开(公告)号：CN111508885B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN201911345382.0
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具体而言，具备：基座板；及陶瓷电介质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、与所述第1区域邻接的第2区域，在所述第1区域中设置有多个第1槽、与所述多个第1槽的至少1个连接的至少1个第1气体导入孔、在与所述多个第1槽交叉的方向上延伸的至少1个第2槽，所述多个第1槽的各自的平面形状呈大致圆形，且被同心设置，所述第2槽与至少2个所述第1槽连接，在投影到垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介质基板的第1方向的平面时，在连接所述第1槽和所述第2槽的部分上，所述第1气体导入孔的至少一部分与所述第1槽及所述第2槽的至少任一重叠。
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公开(公告)号：CN118712115A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410172197.0
申请日：2024-02-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 静电吸盘具备：电介体基板，形成有穿通孔；RF电极，被埋入到电介体基板内部；及吸附电极，在比RF电极更靠载放面侧的位置上，被埋入到电介体基板内部。在从垂直于载放面的方向进行观察时，在吸附电极上形成有与上述穿通孔同心且包含上述穿通孔的圆形的第1开口，且在RF电极上形成有与上述穿通孔同心且包含上述穿通孔的圆形的第2开口。第2开口的半径比第1开口的半径更大。
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公开(公告)号：CN111668148B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202010142829.0
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，与所述气体导入路相对，所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域，所述第1多孔区域具有：多个第1疏松部分；及第1紧密部分，具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度，所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸，所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间，所述第1疏松部分具有第1壁部，在与所述第1方向大致正交的第2方向上，所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值，所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。
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公开(公告)号：CN110277343B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201910149763.5
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够提高强度。提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述穿通孔，其特征为，所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域，所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触，所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
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公开(公告)号：CN110277341B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201910149165.8
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , H01J37/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够实现电弧放电的降低及气体流动的顺畅化。提供一种静电吸盘，其特征为，陶瓷电介体基板具有位于第1主面与第1多孔质部之间的第1孔部，陶瓷电介体基板及第1多孔质部中的至少任意一个具有位于第1孔部与第1多孔质部之间的第2孔部，在与从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向大致正交的第2方向上，第2孔部的尺寸比第1多孔质部的尺寸更小，比第1孔部的尺寸更大。
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公开(公告)号：CN115732387A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211003084.5
申请日：2022-08-19
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘，具备：接合部，设置在基板与基座板之间；气体导入路，具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部；锪孔部，设置在第1孔部及第2孔部的至少任意一个；及多孔质部，具有向第3孔部露出的露出面且设置在锪孔部，当将从基座板朝向基板的方向作为第1方向时，多孔质部具有：具有透气性的多孔部；及与多孔部相比更致密的致密部，致密部被配置成覆盖多孔部的外周，致密部的至少一部分构成从露出面沿着第1方向朝着第3孔部突出的第1突出部。
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公开(公告)号：CN110277341A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910149165.8
申请日：2019-02-28
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , H01J37/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够实现电弧放电的降低及气体流动的顺畅化。提供一种静电吸盘，其特征为，陶瓷电介体基板具有位于第1主面与第1多孔质部之间的第1孔部，陶瓷电介体基板及第1多孔质部中的至少任意一个具有位于第1孔部与第1多孔质部之间的第2孔部，在与从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向大致正交的第2方向上，第2孔部的尺寸比第1多孔质部的尺寸更小，比第1孔部的尺寸更大。
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公开(公告)号：CN118737928A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410835027.6
申请日：2019-10-15
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，设置在与所述气体导入路相对的位置，其特征为，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部，所述第1多孔质部具有：多孔部，具有多个孔；及第1致密部，比所述多孔部更致密，多孔部具有：多个疏松部分，具有包含第1孔、第2孔的多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，在与第1方向大致正交的第2方向上，分别设置于多个疏松部分的多个孔的尺寸，比紧密部分的尺寸更小。
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公开(公告)号：CN118538652A
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202410172429.2
申请日：2024-02-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 静电吸盘具备：电介体基板，形成有第1气孔；底盘，形成有第2气孔；及接合层，设置在电介体基板和底盘之间，由绝缘性的材料形成。在电介体基板中的接合层侧的面上，形成有第1气孔的端部即第1开口。在底盘中的接合层侧的面上，在与第1开口不同的位置上，形成有第2气孔的端部即第2开口。在底盘中的接合层侧的面上，形成有使第1开口和第2开口之间连通的连通槽。
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公开(公告)号：CN111508884B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN201911324485.9
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、第2区域，所述第1主面的所述第1区域设置有多个第1槽、至少1个第1气体导入孔，所述多个第1槽包含：第1边界槽，最靠近于所述第1区域和所述第2区域之间的第1边界而设置，且沿着所述第1边界延伸；及至少1个第1区域内槽，在所述第1主面的所述第2区域中，设置有多个第2槽、至少1个第2气体导入孔，所述多个第2槽包含沿着所述第1边界延伸的第2边界槽，所述第1边界槽和所述第2边界槽之间的槽端部间距离比所述第1边界槽和邻接于所述第1边界槽的所述第1区域内槽之间的槽端部间距离更小。
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