去除悬浮性不纯物的方法

    公开(公告)号:CN1100068A

    公开(公告)日:1995-03-15

    申请号:CN94106246.5

    申请日:1990-10-20

    申请人: 茬原制作所

    发明人: 河津秀雄

    IPC分类号: C02F1/42 B01J47/04 C08J5/20

    摘要: 本发明涉及去除悬浮性不纯物用的材料,尤其是,涉及一种离子交换树脂类有机聚合吸附剂或具有独特表面及表面层结构及形态的吸附材料,且藉其显著增加之效率去除主要由金属氧化物所组成的以微量存在于待处理的制造超净水的水中之悬浮性不纯物。一般而言,冷凝水中的金属氧化物主要由被称为“渣滓”或“渣滓铁”之类的氧化铁所组成。本发明同时涉及该聚合吸附剂或吸附材料之用途和使用该聚合物吸附剂或吸附材料去除悬浮性不纯物的方法。

    生产含有碳酸酯的酸敏液体组合物的方法

    公开(公告)号:CN1221864C

    公开(公告)日:2005-10-05

    申请号:CN02808086.6

    申请日:2002-03-19

    摘要: 本发明公开了生产酸敏液体组合物的方法。该方法包括以下步骤:让含有用式ROC(=O)OR1表示的碳酸酯(其中R和R1独立是1到大约10个碳原子的烃基)的酸敏液体组合物通过以下两种滤片的至少一种:(a)包括其中固定有颗粒助滤剂和具有大约2到大约10微米(μm)的平均粒度的颗粒离子交换树脂的自承纤维基质的滤片,其中该颗粒助滤剂和离子交换树脂颗粒基本上均匀分布在所述基质的整个截面部分;和/或(b)包括其中固定有颗粒助滤剂和粘结剂树脂的自承纤维基质,且具有大约0.05到0.5μm的平均孔径的滤片。本发明还公开了处理置于表面上的光致抗蚀剂组合物的薄膜的方法,所述方法包括让所述光致抗蚀剂组合物与通过上述方法制备的酸敏液体组合物接触,其量足以使在所述整个薄膜表面上具有基本均匀薄膜厚度的光致抗蚀剂组合物。

    去除悬浮性不纯物的方法

    公开(公告)号:CN1091749C

    公开(公告)日:2002-10-02

    申请号:CN94106246.5

    申请日:1990-10-20

    申请人: 茬原制作所

    发明人: 河津秀雄

    IPC分类号: C02F1/42 B01J47/04 C02F3/20

    摘要: 本发明涉及去除悬浮性不纯物用的材料,尤其是,涉及一种离子交换树脂类有机聚合吸附剂或具有独特表面及表面层结构及形态的吸附材料,且籍其显著增加之效率去除主要由金属氧化物所组成的以微量存在于待处理的制造超净水的水中之悬浮性不纯物。一般而言,冷凝水中的金属氧化物主要由被称为“渣滓”或“渣滓铁”之类的氧化铁所组成。本发明同时涉及该聚合吸附剂或吸附材料之用途和使用该聚合物吸附剂或吸附材料去除悬浮性不纯物的方法。

    一种从液流中分离带电粒子的方法和改进的过滤器

    公开(公告)号:CN1111542A

    公开(公告)日:1995-11-15

    申请号:CN94109534.7

    申请日:1994-07-01

    申请人: 格雷弗公司

    发明人: E·沙伦姆

    IPC分类号: B01D29/15 B01D37/00 B01D15/04

    CPC分类号: B01D37/02 B01J47/133

    摘要: 本发明提供了一种从水流中分离金属腐蚀物的方法。一种用相对少量的离子交换材料调整过的过滤器在以工业上所要求的流量处理水流时表现的相对低的压差和有效的截留。该方法使得在过滤表面应用最少的材料得到较长的过滤操作时间。此外,本发明还提供了一种从水流中分离具有相对宽的粒子尺寸范围的金属腐蚀物的过滤器。

    生产光致抗蚀剂组合物用成膜树脂的方法

    公开(公告)号:CN1321737C

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN02808085.8

    申请日:2002-03-19

    摘要: 本发明提供了生产适合用于光致抗蚀剂组合物的成膜树脂的方法,包括下列步骤:(a)提供成膜树脂在溶剂中的溶液,所述成膜树脂通过将含有环烯烃或酸不稳定丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体的至少一种单体聚合来制备;(b)提供以下两种滤片的至少一种:(i)包括其中固定有颗粒助滤剂(优选用酸洗涤过)和颗粒离子交换树脂的自承纤维基质的滤片,所述离子交换树脂具有大约2到大约10微米的平均粒度,其中所述颗粒助滤剂和离子交换树脂颗粒基本上均匀分布在所述基质的整个截面部分;和/或(ii)包括其中固定有颗粒助滤剂和粘结剂树脂的自承纤维(优选纤维素)基质的滤片,该滤片优选不含有任何离子交换树脂,和具有0.05到0.5μm的平均孔径;(c)用步骤a)的溶剂冲洗步骤b)的滤片;和(d)让该成膜树脂的溶液通过步骤(c)的冲洗过的滤片。本发明还提供了生产光致抗蚀剂组合物的方法,包括提供:1)用上述方法制备的成膜树脂;2)其量足以使光致抗蚀剂组合物光敏化的光敏组分;和任选3)其它适合的光致抗蚀剂溶剂的混合物。本发明还提供了通过在基材上形成影像来生产微电子器件的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供通过前述方法制备的光致抗蚀剂组合物;b)此后,用步骤a)的光致抗蚀剂组合物涂布适合的基材;c)此后,热处理涂布的基材,直到基本上全部的光致抗蚀剂溶剂被去除为止;和d)将该光致抗蚀剂组合物成像曝光和用适合的显影剂除去光致抗蚀剂组合物的成像曝光区域。