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公开(公告)号：CN118880424A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410904813.7
申请日：2024-07-08
申请人： 江苏杰成电子科技有限公司
发明人： 吴志刚
摘要： 本发明公开了一种电镀箱的循环过滤装置，应用在电镀液过滤技术领域，本发明通过设置过滤单元，由此构成独特的三级过滤结构，通过初滤腔、深度过滤腔和精细过滤腔的依次设置，可使较大颗粒杂质被初滤腔内的前端过滤组件拦截，而初步过滤后的电镀液进入深度过滤腔中的中段过滤组件，其中的中小颗粒杂质被其吸附和过滤，随后，电镀液进入精细过滤腔内的后端过滤组件，经过后端过滤组件的深度处理，使微小颗粒和胶体物质被去除，因而实现了对电镀液的全面、多层次过滤，确保过滤效果的显著提升，有效去除各种大小和类型的杂质。
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公开(公告)号：CN118555763A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410626143.7
申请日：2024-05-20
申请人： 江苏博敏电子有限公司
摘要： 本发明涉及高密度互联板制作技术领域，公开了一种高介厚大孔径的盲孔电镀制作方法，通过在板表面制备需要电镀的盲孔结构，形成盲孔板；将盲孔板放置在电镀槽中执行电镀操作，其中电镀操作的策略包括电镀填孔、电流调控和电镀监测，电镀填孔用于盲孔板的盲孔填孔，并调整盲孔板在电镀过程中的电镀参数进行分组测试，提高了盲孔板的电镀质量，电流调控用于控制盲孔内的电流密度分布，优化电镀质量，电镀监测用于实时监测盲孔内的电流密度分布并实时调整电镀参数，确保电镀层的均匀性和质量稳定性，提高电镀效率和质量；对电镀填孔后的盲孔板进行质量检验，通过因子显著性分析、方差分析、主效应图分析和残差分析确定最佳的电镀参数组合。
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公开(公告)号：CN107630242B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201710815351.1
申请日：2017-09-12
申请人： 江苏久吾高科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及膜技术用于阳极氧化过程中废酸的回收工艺。工艺包括如下步骤：第1步、将来自于阳极氧化槽的废酸进行冷却，控制后续处理工艺的温度；第2步、将冷却后的废酸进行粗过滤，去除其中悬浮物；第3步、将经过粗过滤的废酸采用膜技术进行过滤分离，获得浓缩液及滤清液。滤清液回用于阳极氧化工艺。该工艺能提高阳极氧化工艺过程中的酸使用效率，减少阳极氧化工艺中的废酸排放。
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公开(公告)号：CN118463138A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410574196.9
申请日：2024-05-10
申请人： 湖州市鹑火光电有限公司
IPC分类号： F21V33/00 , F21V19/00 , F21V23/00 , H01L31/18 , B05B9/04 , B05B15/40 , B05B12/08 , C25D17/00 , C25D5/08 , C25D7/12 , C25D21/06 , C25D21/00 , F21Y115/10 , F21Y103/10
摘要： 本发明涉及光伏板电镀技术领域，公开了本发明为一种光诱导灯源，包括：传动组件，所述传动组件包括空心的辊轴，所述辊轴传动连接在电机的输出端上；发光组件，所述发光组件包括LED灯条和电缆线；所述灯条固定安装在辊轴的外壁上；所述电缆线设置在所述辊轴的内腔，且用于连接外部电路，并向LED灯条提供电力；支撑组件，包括：灯头、灯体和滚轮片；两个所述灯头分别固定安装在所述辊轴的两端；所述灯体安装于两个所述灯头之间，且为透明材质。本发明中灯源与传送辊轮一体化设计，减少灯源与电池片的距离，提高电池片的受光强度，增大电池片的光激化的电流强度，加快电镀沉积速率，降低电镀时间，进而减少电镀线长度。
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公开(公告)号：CN118441345A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410527750.8
申请日：2024-04-29
申请人： 九天半导体(南通)有限公司
摘要： 本发明涉及电镀液回收处理技术领域，具体为一种电镀液回收装置及方法，包括沉淀池和回收池，沉淀池的一侧面设置有排水管，回收池的一侧面固定有进水管，排水管和进水管相对应，且排水管和进水管之间通过存污弯管连通，存污弯管处设置有过滤排出机构，过滤排出机构用于对沉淀池内抽入到回收池内沉淀后的废液中混合的颗粒沉淀杂质进行过滤排出，回收池内设置有加液混合机构，加液混合机构用于将碳酸盐溶液加入到回收池上与沉淀后的废液先进行混合再搅拌；本发明不会出现排水管排出的废液中混合的沉淀的颗粒杂质进入到回收箱内，进而能够提高回收池内充入的碳酸盐溶液对废水中的金属阳离子的置换反应的效果。
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公开(公告)号：CN118345490A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410438314.3
申请日：2024-04-12
申请人： 重庆顺启新材料有限公司
IPC分类号： C25D17/16 , C25D17/10 , C25D17/00 , C25D21/10 , C25D21/12 , C25D21/06 , C25D21/18 , C25D7/00 , C25D5/00
摘要： 本发明属于磨料加工技术领域，具体涉及一种磨料颗粒粗糙度处理装置，包括：电镀箱，电镀箱的内部通过卡套设置有电镀阳极；组装斗，组装斗设置在电镀箱的内底部，且组装斗底部设置有排料管并贯穿至电镀箱底部外，电镀箱顶部设置有网罩筒，网罩筒顶部设置有电镀阴极与扣盖；封堵组件，封堵组件设置在组装斗内，用于对组装斗的底端出口进行开/闭控制；吹送组件，吹送组件设置在组装斗上，用于向网罩筒内吹送压力空气；冲液组件，冲液组件设置在组装斗上，用于向网罩筒内冲填电镀液，用于解决对于磨料颗粒的电镀，在电镀过程中由于磨料颗粒自身重力影响会发生沉降，导致很多磨料颗粒表面镀覆的基质金属会分布不均匀的问题。
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公开(公告)号：CN118345486A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410381140.1
申请日：2024-03-29
申请人： 深圳惠科新材料股份有限公司
摘要： 本申请属于铜箔制造设备领域，具体涉及一种工作液循环系统及表面处理设备，工作液循环系统包括表处理槽、连接装置、进液装置和分流装置，连接装置的排液口与表处理槽的进液口连接；进液装置与连接装置的进液口连接，用于通入工作液到连接装置中；分流装置包括第一储罐，第一储罐的进液口与表处理槽的排液口连接，第一储罐的排液口用于连接废液存储装置或废液处理装置，进液装置通入连接装置的工作液的流量与第一储罐的排液口排放工作液的流量相等。补充工作液和排放工作液的速度相等，与工作液定期补充的方案相比，工作液中溶质的浓度可以保持稳定，进液装置补充的工作液中溶质的浓度可保持不变，降低了补充工作液的工作量及难度。
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公开(公告)号：CN112725873B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202011590518.7
申请日：2020-12-29
申请人： 江西超洋科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种精确循环过滤喷流节能系统，属于电镀生产线电镀槽喷流技术领域，其技术方案要点是，包括PLC控制模块，包括电性连接在一起的控制面板和单片机处理器，控制面板用于输入操作，单片机处理器用于接收信号并发出控制指令；输送机构，包括电性连接在一起的过滤循环泵和变频器，过滤循环泵的输入端通过管道外接喷流液，过滤循环泵用于输送喷流液，变频器用于调节过滤循环泵的输出流量；喷流机构，通过管道与过滤循环泵的输出端相连，用于将过滤循环泵传输过来的喷流液喷出。该系统能够满足自动化、智能化的生产需求，能够精确自动调节喷流流量，喷流电镀效果好，而且节约了能耗。
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公开(公告)号：CN118007221B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410428711.2
申请日：2024-04-10
申请人： 苏州智程半导体科技股份有限公司
摘要： 本发明属于晶圆电镀设备技术领域，尤其是一种晶圆水平电镀腔室，包括腔室主体，还包括安装在所述腔室主体上的罩体、反应装置、均流装置以及支撑装置。该晶圆水平电镀腔室，通过设置均流装置，能够通过拨动套的转动，能够充分对阴极液池内的阴极电解液进行拨动，拨动套之间能够围成圆环，能够使得对阴极电解液进行均匀充分的拨动，防止阴极电解液与金属离子之间不均匀，影响晶圆镀膜的质量，能够加快金属离子快速通过消泡膜，加快金属离子与晶圆的接触，从而能够加快晶圆的镀膜的速度，设置的消泡膜，能够有效防止波动可能产生的微小气泡对镀膜产生的影响，解决了解决了现有的化学镀中金属离子流动慢，降低了工作的效率的技术问题。
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公开(公告)号：CN108382193B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN201810334308.8
申请日：2018-04-14
申请人： 江阴道达汽车饰件有限公司
摘要： 本发明涉及的一种镶拼处理大型格栅，包括大型格栅外框，所述大型格栅外框内部设置有格栅卡丝，所述大型格栅外框中间设置有车标外框，所述车标外框内部连接有车标LOGO，所述车标外框外部连接有格栅横条，所述格栅横条内侧设置有格栅内条，所述大型格栅外框下部设置有车标识语载片，所述车标识语载片内部连接有车标识语，由于大型格栅外框、格栅横条、格栅内条和车标外框采用镶拼式工艺处理，能满足人们的多样化需求，增加使用寿命，便于机械加工,以保证压铸件的尺寸精度和组合部分的配合精度，并且使镶拼处理大型格栅在外形上更具有层次感，方便对各个部件的区别处理，增加了实用性，适合广泛推广。
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