基板平整度监控装置
    91.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106370134A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610951757.8

    申请日:2016-10-27

    Inventor: 曾祥波

    CPC classification number: G01B11/30 G03F7/7085

    Abstract: 本发明公开了一种基板平整度监控装置,包括光路系统、信号处理系统和显示监控系统,光路系统包括线光源和受光系统;线光源用于发射光束照射基板表面;受光系统用于接收经基板反射的光信号;信号处理系统用于分析受光系统接收到的光信号,判断基板平整度是否存在异常;显示监控系统用于显示信号处理系统的结果并在基板平整度存在异常时发出警报。本监控装置实时监控基板平整度,在不影响设备运行的情况下,可以及时发现基板平整度的异常并发出警报,可以及时进行处理,避免了不良产品的产生,降低了生产成本。

    显示设备、背光模组及其场发射光源装置

    公开(公告)号:CN106340438A

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:CN201610926101.0

    申请日:2016-10-24

    Inventor: 徐竹青

    Abstract: 本发明公开一种显示设备、背光模组及其场发射光源装置。场发射光源装置,包括形成在基板上的阳极,所述的阳极包括设于基板上的阳极电极层以及设于所述阳极电极层上的发光材料层,所述的阳极电极层包括:设于所述基板上的导热层以及设于所述导热层上的透明导电膜,发光材料层设于透明导电膜上,所述的导热层由金属材料制成,呈网格结构。本发明还提供了带所述场发射光源装置的背光模组及显示设备。本发明能够解决场发射光源装置发热严重的问题。

    一种薄膜晶体管
    93.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106252418A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610842536.7

    申请日:2016-09-22

    Inventor: 黄洪涛 戴超

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管,包括第一金属层栅极、第一绝缘层栅绝缘层、半导体层、第二金属层源极漏极和第三绝缘层钝化层,所述第一金属层栅极形成在衬底玻璃层上,第一绝缘层栅绝缘层位于第一金属层栅极上,半导体层在第一绝缘层栅绝缘层上,第二金属层源极漏极位于半导体层上面,第三绝缘层钝化层在最外层位于第二金属层源极漏极上;所述第一金属层栅极和半导体层设置成镂空结构。薄膜晶体管将栅极、半导体层设计成镂空的形式,使TFT的内部形成多个分布式排列的通光孔,可以增大框胶固化所使用的紫外光的透过率,提高涂覆在TFT上的框胶固化率。镂空式TFT使得框胶涂覆区域可以与TFT充分重叠,从而进一步减小边框宽度。

    一种液晶显示器面板制造中的周边曝光方法

    公开(公告)号:CN106249553A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610913587.4

    申请日:2016-10-20

    Inventor: 王强

    Abstract: 本发明公开了一种液晶显示器面板制造中的周边曝光方法,包括通过对掩膜版的周边区域进行曝光使母基板上形成N层薄膜周边图案,其中N≥3,N层薄膜由深色材料膜层和浅色材料膜层组成,第1层薄膜周边图案为衡量标尺;第2~N层中,上下相邻的浅色材料膜层构成浅色材料膜层组,所述的浅色材料膜层组中至少有两层周边图案位置部分重合或全部重合,深色材料膜层周边图案与其上方的任意一层浅色材料膜层周边图案位置不重合,任意两个深色材料膜层周边图案位置不重合。本发明能够减小每个独立周边图案的基板使用面积,提高母基板有效区域利用率。

    有机膜技术与ITO薄膜技术共用掩膜板的方法

    公开(公告)号:CN106249549A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610916619.6

    申请日:2016-10-21

    Inventor: 闵苏

    CPC classification number: G03F7/16

    Abstract: 本发明公开了一种有机膜技术与ITO薄膜技术共用掩膜板的方法,包括以下步骤:(1)制作石英基板;(2)对基板进行负性有机膜涂布;(3)对基板进行曝光,曝光时确保半透膜区域不会在显影工艺中溶解;(4)对曝光后的基板进行显影,不透光区域的有机膜被除去;(5)对基板进行ITO沉积镀膜;(6)对基板进行正性光刻胶涂布、曝光;胶存在,其余区域的光刻胶被除去;(8)对基板进行蚀刻,形成ITO所需的图案。本发明的方法有效的节省了掩膜板的使用数量,也降低了曝光机的负荷,降低了生产成本。(7)对基板进行显影,铬膜和半透膜区域的光刻

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